[發明專利]光學系統、投影系統及微結構半導體部件的制造方法

有效

• 申請號: 201010155335.2
• 申請日: 2005-01-14
• 公開（公告）號: CN101799587A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: D·菲奧爾卡;M·德格恩特爾
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT股份公司
• 主分類號: G02B27/28
• 分類號: G02B27/28;G02B5/30;G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種光學系統，包含光軸或由傳過所述光學系統的光束的方向給定 的優選方向，所述光學系統包含由坐標系統的坐標描述的偏振調制光學元 件，其中所述坐標系統的一個優選坐標平行于所述光軸或平行于所述優選方 向，所述偏振調制光學元件包含旋光材料和有效光學厚度的分布，其中所述 有效光學厚度至少作為與所述坐標系統的所述優選坐標不同的一個坐標的 函數而變化，所述偏振調制光學元件的厚度分布設定為使得將具有均勻取向 的線性偏振分布的光轉換為具有切向偏振分布的光或者轉換為具有徑向偏 振分布的光。

2.如權利要求1所述的光學系統，其中所述有效光學厚度由于所述偏 振調制光學元件的旋光率的變化而變化。

3.如權利要求1所述的光學系統，其中所述有效光學厚度由于所述偏 振調制光學元件的幾何厚度的變化而變化。

4.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，其中所述偏振調制 光學元件包含旋光或非旋光液體和/或旋光晶體。

5.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，其中所述偏振調制 光學元件包含順時針和逆時針旋光材料。

6.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，其中以不同路徑傳 過所述光學系統并通過所述偏振調制光學元件的第一線性偏振光線和第二 線性偏振光線的各自相應的振蕩平面依照各自相應的第一和第二旋轉角而 被旋轉，以使所述第一旋轉角不同于所述第二旋轉角。

7.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，其中所述偏振調制 光學元件將輸入所述偏振調制光學元件的、具有第一線性偏振分布的光束轉 換為由所述偏振調制光學元件出射的、具有第二線性偏振分布的光束，其中 所述第二線性偏振分布不同于所述第一線性偏振分布。

8.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，包含偏振控制系統， 用于控制傳過所述光學系統的光束在所述光學系統中的預定位置處的偏振 分布，所述偏振控制系統包含至少一個加熱或冷卻裝置以修改所述偏振調制 光學元件的溫度和/或溫度分布，從而影響所述光束在所述光學系統中的所述 預定位置處的偏振分布。

9.如權利要求1至3的其中一個所述的光學系統，其中至少一個偏振 調制光學元件包含經歷過磁場的旋光或非旋光材料，所述磁場具有與傳過所 述偏振調制光學元件的光束方向平行的場分量。

10.一種投影系統，包含輻射源、可操作用來照明結構化的掩模的照明 系統、以及將所述掩模結構的圖像投射到光敏襯底的投影物鏡，并且包含如 權利要求1至9的其中一個所述的光學系統。

11.如權利要求10所述的投影系統，其中在離所述襯底最近的光學元 件和所述襯底之間存在有折射率不同于空氣的浸沒介質。