[發明專利]具有上置式感光鼓的成像設備有效
| 申請號: | 201010154543.0 | 申請日: | 2010-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN102236278A | 公開(公告)日: | 2011-11-09 |
| 發明(設計)人: | 闕壯華 | 申請(專利權)人: | 虹光精密工業(蘇州)有限公司;虹光商用科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | G03G15/00 | 分類號: | G03G15/00 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 梅高強 |
| 地址: | 215021 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 上置式 感光 成像 設備 | ||
1.一種成像設備,其特征在于,包含:
基座;
感光鼓;
顯像組件,可移動地設置于所述基座中,包含:
顯像盒;及
顯像滾輪,安裝在所述顯像盒上,與所述感光鼓相對設置并接觸所述感光鼓,以使碳粉附著于所述感光鼓上;以及
彈性組件,設置在所述顯像盒與所述基座之間,所述彈性組件產生的彈力抵抗所述顯像盒的重量并將所述顯像滾輪推向所述感光鼓。
2.如權利要求1所述的成像設備,其特征在于,所述彈性組件設置在所述顯像盒的底部。
3.如權利要求1所述的成像設備,其特征在于,進一步包含:
支承組件組,設置在所述基座的內壁;以及
施力組件組,設置在所述顯像盒的外壁,其中,所述施力組件組與所述支承組件組的相互作用維持所述顯像滾輪與所述感光鼓穩定地接觸。
4.如權利要求3所述的成像設備,其特征在于,所述支承組件組包含第一支承組件及第二支承組件,所述施力組件組包含第一施力組件及第二施力組件,其中,所述第一施力組件和所述第二施力組件分別與所述第一支承組件和所述第二支承組件對應地設置。
5.如權利要求4所述的成像設備,其特征在于,所述第一施力組件、所述第一支承組件、所述第二施力組件和所述第二支承組件之間的相互作用抵消因所述顯像盒的重量造成的力矩。
6.如權利要求3所述的成像設備,其特征在于,所述支承組件組和所述施力組件組中的至少一個包含導引結構。
7.如權利要求6所述的成像設備,其特征在于,所述支承組件組的所述導引結構包含沿重力方向延伸的平面,所述施力組件組施力于所述平面。
8.如權利要求6所述的成像設備,其特征在于,所述支承組件組的所述導引結構包含斜面,所述施力組件組施力于所述斜面。
9.如權利要求3所述的成像設備,其特征在于,所述支承組件組和所述施力組件組中的至少一個包含滾輪。
10.如權利要求1所述的成像設備,其特征在于,所述顯像組件還包含:
動力轉軸,穿設于所述顯像盒,用以接收動力并驅動所述顯像滾輪。
11.如權利要求1所述的成像設備,其特征在于,所述顯像滾輪及所述彈性組件設置在所述顯像盒的重心的同一側。
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