[發(fā)明專利]鍍膜系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010154322.3
• 申請日: 2010-04-23
• 公開（公告）號: CN102234762A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發(fā)明（設計）人: 裴紹凱
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;B05C9/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明涉及鍍膜制程領域，尤其涉及一種鍍膜系統(tǒng)。

背景技術

當前，許多工業(yè)產品表面都鍍有功能薄膜以改善產品表面的各種性能。如在光學鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光通過鏡片的能量損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾掉某一預定波段的光，制成各種各樣的濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法等。Ichiki，M.等人在2003年5月發(fā)表于2003?Symposium?on?Design，Test，Integrationand?Packaging?of?MEMS/MOEMS的論文《Thin?film?formation-a?fabricationon?non-planar?surface?by?spray?coating?method》中介紹了通過噴涂在非平面形成薄膜的方法。

現有鍍膜方式是將鍍膜和噴漆在不同的裝置中進行的，因此鍍膜完成后的待鍍物品要經過專門的運送裝置運送至噴漆裝置中，這無疑增加了運送成本，同時，待鍍物品在運送過程中也容易被污染，對待鍍物品的鍍膜良率造成影響，同時加工步驟煩瑣。

發(fā)明內容

有鑒于此，有必要提供一種可提高鍍膜良率及提高鍍膜速率的鍍膜系統(tǒng)。

一種鍍膜系統(tǒng)，其包括一腔體、一鍍膜傘架及一旋轉驅動組件。所述鍍膜傘架用于收容多個待鍍膜的基板。所述旋轉驅動組件連接至所述鍍膜傘架，用于驅動所述鍍膜傘架在所述腔體內轉動。所述腔體包括一隔板，該隔板將所述腔體分隔成相互間隔的鍍膜腔及噴漆腔。所述鍍膜系統(tǒng)進一步包括一升降驅動組件、一溶劑儲室及一噴射裝置。所述升降驅動組件帶動旋轉驅動組件升降，以使所述鍍膜傘架在鍍膜腔及噴漆腔內升降。所述溶劑儲室用于存放涂料溶劑。所述溶劑儲室與所述噴漆腔相貫通，所述噴射裝置設置在所述溶劑儲室內，該噴射裝置并連接至所述噴漆腔，以將溶劑儲室內的涂料溶劑噴射至待鍍膜的基板。

本發(fā)明的鍍膜系統(tǒng)既可對待鍍膜的基板進行蒸鍍又可對待鍍膜的基板噴射涂料，省去了由蒸鍍制程到噴射涂料制程之間對待鍍膜的基板的運送動作，因此節(jié)省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率，同時避免待鍍膜的基板由于運送而造成的污染，進而提高了鍍膜良率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明第一實施方式的鍍膜系統(tǒng)的示意圖；

圖2是圖1中的鍍膜系統(tǒng)的使用狀態(tài)示意圖；

圖3是本發(fā)明第二實施方式的鍍膜系統(tǒng)的示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜系統(tǒng)????????100、200

腔體????????????10

離子發(fā)射源??????20

蒸發(fā)源??????????30

鍍膜傘架????????40

旋轉驅動組件????50

升降驅動組件????60、75

閘門結構????????70

溶劑儲室????????80

噴射裝置????????90

殼體????????????11

隔板????????????12

鍍膜腔??????????13

噴漆腔??????????14

頂板????????????11a

底板????????????11b

第一側板????????11c

第二側板????????11d

圓孔????????????114

排氣孔??????????110

第一通孔????????112

鍍膜孔??????????41

待鍍膜的基板????44

主體部??????????502

轉軸????????????504

固定桿??????????62

轉動桿??????????64

套環(huán)????????????66

第一馬達????????68

連接桿??????????69

閥門????????????71

第二馬達????????72

固定板??????????77

第二通孔????????710

第三通孔????????810

注料口??????????820

涂料溶劑????????85

噴嘴????????????91