[發明專利]調色劑、圖像形成方法及圖像形成裝置有效
| 申請號: | 201010151889.5 | 申請日: | 2010-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN101866120A | 公開(公告)日: | 2010-10-20 |
| 發明(設計)人: | 有賀友洋;岡田英樹;山田陽一;松本大輔 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G03G9/08 | 分類號: | G03G9/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 調色 圖像 形成 方法 裝置 | ||
1.一種調色劑,其含有平均體積粒徑為2μm~6μm的調色劑母粒和平均粒徑為7nm~15nm的小粒徑二氧化硅、平均粒徑為50nm~400nm的大粒徑二氧化硅和用片鈉鋁石法得到的平均粒徑為7nm~20nm的小粒徑過渡氧化鋁,所述調色劑母粒至少包含粘結樹脂、著色劑和脫模劑。
2.根據權利要求1所述的調色劑,其中調色劑母粒的平均粒徑為2μm~4μm,通過相反轉乳化法制成。
3.根據權利要求1所述的調色劑,其中調色劑母粒的50%體積粒徑/50%數量粒徑,即Dv/Dn為1.25以下。
4.根據權利要求1所述的調色劑,其中調色劑母粒的圓形度為0.97~0.99。
5.一種圖像形成方法,其特征在于,具有擔載有靜電潛像的感光體、和以非接觸狀態與該感光體相對置的顯影裝置,該顯影裝置具有用于使所述感光體上擔載的靜電潛像顯影的顯影輥和用于向該顯影輥供給調色劑的供給輥,并且具有在使所述顯影輥擔載調色劑時施加限制偏壓而使其擔載的層厚限制部件,所述顯影輥具有擔載調色劑的表面,并且在該表面具有相對于軸方向和圓周方向傾斜且在軸方向上形成等螺距的螺旋狀的溝槽部,
向該顯影裝置供給含有平均體積粒徑為2μm~6μm的調色劑母粒、平均粒徑為7nm~15nm的小粒徑二氧化硅、平均粒徑為50nm~400nm的大粒徑二氧化硅和用片鈉鋁石法得到的平均粒徑為7nm~20nm的小粒徑過渡氧化鋁的調色劑作為所述調色劑,使所述感光體上擔載的靜電潛像在交流電場下顯影,所述調色劑母粒至少包含粘結樹脂、著色劑和脫模劑。
6.一種圖像形成裝置,其特征在于,具有擔載有靜電潛像的感光體、和以非接觸狀態與該感光體相對置的顯影裝置,該顯影裝置具有用于使所述感光體上擔載的靜電潛像顯影的顯影輥和用于向該顯影輥供給調色劑的供給輥,并且具有在使所述顯影輥擔載調色劑時施加限制偏壓而使其擔載的層厚限制部件,所述顯影輥具有擔載調色劑的表面,并且在該表面具有相對于軸方向和圓周方向傾斜且在軸方向上形成等螺距的螺旋狀的溝槽部,
向該顯影裝置供給含有平均體積粒徑為2μm~6μm的調色劑母粒、平均粒徑為7nm~15nm的小粒徑二氧化硅、平均粒徑為50nm~400nm的大粒徑二氧化硅和用片鈉鋁石法得到的平均粒徑為7nm~20nm的小粒徑過渡氧化鋁的調色劑作為所述調色劑,使所述感光體上擔載的靜電潛像在交流電場下顯影,所述調色劑母粒至少包含粘結樹脂、著色劑和脫模劑。
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