[發明專利]不銹鋼蝕刻后的清洗劑及其使用方法

無效

• 申請號: 201010151259.8
• 申請日: 2010-04-20
• 公開（公告）號: CN102234810A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 黃巍;蔡玲倩
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: C23G1/08
• 分類號: C23G1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種不銹鋼蝕刻后的清洗劑及其使用方法，尤其是涉及一種安全、有效且環保的不銹鋼蝕刻后的清洗劑及其使用方法。

背景技術

現有的電子裝置殼體通常為金屬殼體。在該金屬殼體的表面通常會鍍覆一裝飾層，如電泳漆層，以使所述金屬殼體具有較佳的外觀。所述裝飾層形成后通常還會對該裝飾層施以激光雕刻、以及進一步對雕刻區域的金屬基材施以化學蝕刻處理，以在殼體的表面形成裝飾性圖案。化學蝕刻中的蝕刻液通常為鐵的鹽酸溶液。經蝕刻后通常會有部分的蝕刻液殘留在殼體的表面而難以經水洗去除，必須使用化學清洗劑來清洗。

目前所使用的化學清洗劑常采用含鹵酸，由于含鹵酸沸點低、易揮發且腐蝕性強等缺點，不僅對設備的密封性要求高，而且容易腐蝕設備，降低設備的使用壽命。同時，被腐蝕的設備更容易老化，而導致密封性不良，造成環境的污染，還會威脅到操作工人的身體健康。

發明內容

鑒于此，有必要提供一種安全環保且有效的不銹鋼蝕刻后的清洗劑。

另外，還有必要提供一種上述清洗劑的使用方法。

一種不銹鋼蝕刻后的清洗劑，該清洗劑中含有：選自濃度為200-600g/L的無機酸、無機酸的堿金屬鹽、及無機酸的堿土金屬鹽中的一種或幾種、濃度為26-275g/L的與鐵或亞鐵離子有絡合作用的絡合劑、選自濃度為75-250g/L的有機羧酸、有機羧酸鹽中的一種或兩種的組合。

一種不銹鋼蝕刻后的清洗劑的使用方法，其包括將一經含鐵的鹽酸溶液蝕刻處理后的待清洗工件浸漬于該清洗劑中的步驟；所述清洗劑中含有：選自濃度為200-600g/L的無機酸、無機酸的堿金屬鹽、及無機酸的堿土金屬鹽中的一種或幾種、濃度為26-275g/L的與鐵或亞鐵離子有絡合作用的絡合劑、選自濃度為75-250g/L的有機羧酸、有機羧酸鹽中的一種或兩種的組合。

相較于現有技術，使用所述的清洗劑可有效去除附著于待清洗工件表面的化學蝕刻液，且該清洗劑腐蝕性小，極大的降低了對設備的腐蝕，且所添加的絡合劑可大大延長清洗劑的使用時間，降低了成本。

具體實施方式

本發明一較佳實施方式的不銹鋼蝕刻后的清洗劑中含有：選自為無機酸、無機酸的堿金屬鹽、及無機酸的堿土金屬鹽中的一種或幾種、與鐵或亞鐵離子有絡合作用的絡合劑、選自為有機羧酸、有機羧酸鹽中的一種或兩種的組合、以及氧化性無機酸。

所述無機酸可為磷酸或硫酸。所述磷酸可為質量百分含量為85％的磷酸，所述硫酸可為質量百分含量為98％的硫酸。

所述無機酸的堿金屬鹽可為磷酸鈉或硫酸鈉。

所述無機酸的堿土金屬鹽可為磷酸鎂或硫酸鈣。

上述無機酸、無機酸的堿金屬鹽及無機酸的堿土金屬鹽中的一種或幾種在所述清洗劑中的濃度可為200-600g/L，優選為300-350g/L。該無機酸、無機酸的堿金屬鹽及無機酸的堿土金屬鹽中的一種或幾種提供所述清洗劑以H+及酸性環境，避免待清洗工件表面的鐵或亞鐵離子發生水解而沉淀。

所述與鐵或亞鐵離子有絡合作用的絡合劑可選自為乙二胺四乙酸二鈉鹽、乙二胺四乙酸四鈉鹽、羥基乙叉二膦酸、檸檬酸、檸檬酸鈉、酒石酸、酒石酸鉀鈉、葡萄糖酸鈉中的一種或幾種。該絡合劑在所述清洗劑中的濃度可為26-275g/L，優選為125-175g/L。所述附著于待清洗工件表面的鐵或亞鐵離子與該絡合劑發生絡合反應而溶解于清洗劑中。

所述有機羧酸可為醋酸或苯甲酸。所述醋酸可為質量百分含量為36％的醋酸。

所述有機羧酸鹽可為醋酸鈉或苯甲酸鈉。

上述有機羧酸、有機羧酸鹽或兩者的組合在所述清洗劑中的濃度可為75-250g/L，優選為150-200g/L。所述有機羧酸、有機羧酸鹽或兩者的組合作為緩沖液存在，以維持清洗過程中所述清洗劑的酸度，同時還可起到輔助絡合鐵或亞鐵離子的作用。

所述氧化性無機酸可為硝酸。該硝酸可為質量百分含量為68％的硝酸。該硝酸在所述清洗劑中的濃度可為75-150g/L，優選為100-125g/L。所述氧化性無機酸用以消除待清洗工件的電泳涂裝層經激光蝕刻后所形成的毛邊。

所述清洗劑適用于基材為不銹鋼或其他鐵基合金的待清洗工件。

一種使用上述清洗劑的方法，其包括將一經含鐵的鹽酸溶液蝕刻處理后的待清洗工件浸漬于該清洗劑中的步驟。所述浸漬在常溫下進行約15秒-2分鐘。

以下結合具體實施例作進一步說明。