[發明專利]光刻裝置和器件制造方法

有效

• 申請號: 201010150862.4
• 申請日: 2006-05-08
• 公開（公告）號: CN101794083A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: B·斯特利夫科克;S·N·L·董德斯;R·F·德格拉夫;C·A·霍根大姆;M·H·A·李恩德斯;J·J·S·M·馬坦斯;M·里龐
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光刻裝置，用于將所需圖案的圖像透過液體投影到保持于基底 臺的基底上，在基底臺的表面中以基底臺上表面中的凹槽的形式存在間隙， 或者在基底臺和安裝于基底臺上的傳感器單元或基準板之間存在間隙，或 者在基底臺和基底的外緣之間存在間隙，在正常使用時，液體與所述間隙 接觸，其中所述間隙的表面涂覆有疏水涂層。

2.一種光刻裝置，用于將所需圖案的圖像透過液體投影到保持于基底 臺的基底上，在基底臺的表面中以基底臺上表面中的凹槽的形式存在間隙， 或者在基底臺和安裝于基底臺上的傳感器單元或基準板之間存在間隙，或 者在基底臺和基底的外緣之間存在間隙，在正常使用時，液體與所述間隙 接觸，其中，在所述間隙中設有至少一個尖銳邊緣。

3.如權利要求1所述的光刻裝置，其中，所述涂層具有相對于液體大 于90°的接觸角。

4.如權利要求1所述的光刻裝置，其中，所述涂層是粗糙的，以便增 大有效接觸角。

5.一種光刻裝置，用于將所需圖案的圖像透過液體投影到保持于基底 臺的基底上，在基底臺的表面中以基底臺上表面中的凹槽的形式存在間隙， 或者在基底臺和安裝于基底臺上的傳感器單元或基準板之間存在間隙，或 者在基底臺和基底的外緣之間存在間隙，在正常使用時，液體與所述間隙 接觸，其中，所述間隙具有外伸壁。

6.如權利要求5所述的光刻裝置，其中，所述外伸壁向內和向上變尖。

7.一種光刻裝置，用于將所需圖案的圖像透過液體投影到保持于基底 臺的基底上，在基底臺的表面中以基底臺上表面中的凹槽的形式存在間隙， 或者在基底臺和安裝于基底臺上的傳感器單元或基準板之間存在間隙，或 者在基底臺和基底的外緣之間存在間隙，在正常使用時，液體與所述間隙 接觸，其中，在所述間隙中設有用于從所述間隙排出液體、氣體或者這兩 者的裝置，所述裝置包括排出裝置。

8.如權利要求7所述的光刻裝置，其中，用于排出液體、氣體或這兩 者的裝置包括薄膜，所述薄膜是可透過氣體但不可透過液體的，使得排出 裝置僅僅排出氣體。