[發明專利]莫達非尼旋光對映異構體的晶形及其制備方法無效
| 申請號: | 201010150317.5 | 申請日: | 2003-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN101914044A | 公開(公告)日: | 2010-12-15 |
| 發明(設計)人: | O·內克布洛克;L·庫瓦西耶;S·格拉夫;G·塞呂勒;G·科克雷爾;S·羅斯;C·貝瑟利耶夫爾;F·馬萊;A·J·范朗熱韋爾德 | 申請(專利權)人: | 塞弗倫法國公司 |
| 主分類號: | C07C317/44 | 分類號: | C07C317/44;C07C315/06;A61K31/165;A61P25/00;A61P25/18;A61P25/24;A61P25/16 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 張敏 |
| 地址: | 法國邁*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 莫達非尼旋光 映異構體 晶形 及其 制備 方法 | ||
1.一種莫達非尼左旋或右旋對映異構體,描述為形狀I,其產生的X-射線衍射光譜在下列晶面間距包括強度峰:8.54,4.27,4.02,3.98
2.權利要求1的莫達非尼左旋或右旋對映異構體,其中多晶型產生的X-射線衍射光譜在下列晶面間距包括強度峰:13.40,6.34,5.01,4.68,4.62,4.44,4.20,4.15,3.90,3.80,3.43
3.一種呈多晶型的莫達非尼左旋或右旋對映異構體,描述為形狀I,其產生的X-射線衍射光譜包含15.4,31.1和33.4度的反射2θ。
4.根據權利要求3的莫達非尼左旋或右旋對映異構體,其中多晶型產生的X-射線衍射光譜還包含9.8,20.8,26.4,28.3,28.7,29.9,31.6,32,34.1,35.1和39度的反射2θ。
5.含有根據權利要求1-4的莫達非尼左旋或右旋對映異構體與藥學可接受的賦形劑的藥物組合物。
6.基本上由根據權利要求1-4中任一項的莫達非尼左旋或右旋對映異構體與藥學可接受的賦形劑組成的藥物組合物。
7.(-)-莫達非尼形狀I的多晶型物。
8.(+)-莫達非尼形狀I的多晶型物。
9.含有根據權利要求7和8的(-)-莫達非尼形狀I的多晶型物或(+)-莫達非尼形狀I的多晶型物與藥學可接受的賦形劑的藥物組合物。
10.基本上由根據權利要求7和8中任一項的(-)-莫達非尼形狀I的多晶型物或(+)-莫達非尼形狀I的多晶型物與藥學可接受的賦形劑的藥物組合物。
11.一種制備(-)-莫達非尼形狀I的多晶型物或(+)-莫達非尼形狀I的多晶型物的方法,包括下列步驟:
a)提供溶解在熱溶劑中的(-)-莫達非尼或(+)-莫達非尼溶液,
b)將步驟a)制備的溶液迅速冷卻以產生結晶,
c)過濾結晶;
d)干燥結晶;且
e)獲得所述(-)-莫達非尼形狀I的多晶型物或所述(+)-莫達非尼形狀I的多晶型物的結晶,其中步驟a)的溶劑選自水、無水乙醇、無水乙醇+3%水(v/v),和變性乙醇+3%水(v/v,基于總乙醇和甲苯體積)。
12.根據權利要求6-9中任一項的(-)-莫達非尼或(+)-莫達非尼多晶型,描述為形狀I,用于制備預防或治療疾病的藥物的用途,所述疾病選自睡眠過度;睡眠呼吸暫停、與疾病有關的過度嗜睡、阻塞性睡眠呼吸暫停、發作性睡眠、嗜睡、過度嗜睡、與發作性睡眠病有關的過度嗜睡;中樞神經系統紊亂;針對局部出血的腦組織保護、敏捷障礙,注意力障礙、疲勞狀況;抑郁、與接觸陽光較少有關的抑郁狀況、精神分裂癥、輪流換班工作、時間轉換;進食障礙。
13.根據權利要求12的用途,其中所述疾病選自特發性睡眠過度和用嗎啡止痛劑治療癌癥從而緩解疼痛患者的睡眠過度,帕金森氏病,與營養不良性肌強直有關的敏捷障礙,與活動過度(ADHD)有關的注意力障礙,與多發性硬化和其它變性疾病有關的疲勞狀況。
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