[發(fā)明專利]小分子烷烴燃燒制備氣相二氧化硅的方法與裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010148711.5 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101941707A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬公林;艾俊峰;趙春宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 赤峰盛森硅業(yè)科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B33/18 | 分類號(hào): | C01B33/18 |
| 代理公司: | 呼和浩特北方科力專利代理有限公司 15100 | 代理人: | 秦華 |
| 地址: | 024087 內(nèi)蒙古*** | 國(guó)省代碼: | 內(nèi)蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 分子 烷烴 燃燒 制備 二氧化硅 方法 裝置 | ||
1.一種使用小分子烷烴燃燒制備氣相二氧化硅的裝置,其特征在于,該裝置由反應(yīng)器(1)和插在其頂端的燃燒器(2)組成,燃燒器(2)有四個(gè)與反應(yīng)器(1)同軸的原料氣體入口,在燃燒器(2)的最外緣還包括一個(gè)與反應(yīng)器(1)同軸的外圍引導(dǎo)氣流入口(2-5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的使用小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的裝置,其特征在于,反應(yīng)器(1)的總長(zhǎng)度和內(nèi)徑的比例為1∶0.09~0.12,反應(yīng)器(1)收口處長(zhǎng)度與總長(zhǎng)度的比值為1∶7~9。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的裝置,其特征在于:燃燒器(2)從內(nèi)到外四個(gè)氣體入口內(nèi)徑比例為1∶2.7∶3.1~3.3∶3.5~3.9,燃燒器(2)最外層出口(2-7-2)與主軸之間的角度應(yīng)控制在2.5~10°范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的裝置,其特征在于:燃燒器(2)伸入反應(yīng)器的長(zhǎng)度約為空氣流入口直徑的2.5倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述小分子烷烴燃燒制備氣相二氧化硅的裝置,其特征在于:引導(dǎo)氣流導(dǎo)出口(2-6)為金屬網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
6.一種使用小分子烷烴燃燒制備氣相二氧化硅的方法,其特征在于:在燃燒反應(yīng)發(fā)生之前,將小分子烷烴、空氣和有機(jī)鹵硅烷氣體分為四個(gè)層次通入燃燒器(2)中,這四股氣流共同組成了燃燒反應(yīng)的原料流,同時(shí),在原料流外緣引入外圍引導(dǎo)氣流。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的方法,其特征在于:原料氣分為四個(gè)層次通入燃燒器(2)中,從內(nèi)到外依次通入引導(dǎo)氣流、主要預(yù)混合氣流、烷烴氣流和空氣流。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的方法,其特征在于:燃燒器(2)各入口通入氣體主要技術(shù)指標(biāo)為(Nm3/h):
引導(dǎo)氣流:空氣95~98%;小分子烷烴2~5%;
主要預(yù)混合氣流:空氣與有機(jī)鹵硅烷混合氣96~98%;小分子烷烴2~4%;
烷烴氣流:小分子烷烴100%;
空氣流:空氣100%。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述小分子烷烴燃燒制備氣相二氧化硅的方法,其特征在于:空氣與有機(jī)鹵硅烷的混合是通過(guò)設(shè)于汽化器(3)內(nèi)的螺旋板(3-8)實(shí)現(xiàn)的。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述小分子烷烴燃燒制備氣相法二氧化硅的方法,其特征在于:小分子烷烴為CH4、C2H6、C3H8、C4H10以及它們的混合物;有機(jī)鹵硅烷為SiCl4、CH3SiCl3。
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