[發(fā)明專利]強化高爐間接還原的方法及其專用氣的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010147203.5
• 申請日: 2010-04-15
• 公開（公告）號: CN101818218A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周傳祿;姚朝勝;肖燕鵬;于國華;尹克勝;錢綱;魏新民
• 申請（專利權(quán)）人: 山東省冶金設(shè)計院股份有限公司;萊蕪市天銘冶金設(shè)備有限公司
• 主分類號: C21B5/00
• 分類號: C21B5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種強化高爐間接還原的方法，包括將還原性氣體注入高爐的步驟，其特 征在于：

1.1注入高爐的還原性氣體中包含高爐煤氣；自產(chǎn)的高爐煤氣的截取量為高 爐爐頂煤氣總流量的5％以上，所述的高爐煤氣是截取自使用本方法的高爐自產(chǎn) 的高爐煤氣；

1.2所述的高爐煤氣經(jīng)過消減二氧化碳的處理；在所述的消減二氧化碳的處 理后，獲得的還原性氣體中所含的CO、CO₂、H₂、H₂O的體積量之比滿足CO₂/ (CO₂+CO)≤36％和(CO+H₂)/(CO₂+H₂O)≥178％的條件；所述的煤氣發(fā) 生爐的供氧是采用高溫?zé)犸L(fēng)的形式實現(xiàn)的；所述的消減二氧化碳的處理是采用 吸附的方法將高爐煤氣中的一氧化碳提取出來并加以利用；變壓吸附裝置(18) 將還原性氣體吸附出來并加以利用；

1.3注入高爐的還原性氣體的壓力高于高爐注入點的爐內(nèi)壓力，所述的還原 性氣體是從高爐的軟熔帶以下的位置注入高爐的，溫度控制在≥1350℃且≤ 1600℃的范圍內(nèi)；或者

所述的還原性氣體是從高爐的軟熔帶以上的位置注入高爐的，溫度控制在 ≥800℃且≤1180℃的范圍內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的強化高爐間接還原的方法，其特征在于：

所述的高爐煤氣是截取自使用本方法的高爐自產(chǎn)的高爐煤氣。

3.如權(quán)利要求1或2所述的強化高爐間接還原的方法，其特征在于：

所述的消減二氧化碳的處理是將高爐煤氣中的二氧化碳轉(zhuǎn)化成一氧化碳。

4.如權(quán)利要求1所述的強化高爐間接還原的方法，其特征在于：

所述的將高爐煤氣中的二氧化碳轉(zhuǎn)化成一氧化碳，是在煤氣發(fā)生爐中實現(xiàn) 的。

5.如權(quán)利要求4所述的強化高爐間接還原的方法，其特征在于：

將所述的高爐煤氣送入煤氣發(fā)生爐之前，經(jīng)過預(yù)熱。