[發明專利]太陽能真空管高選擇性吸收涂層的制備方法有效
| 申請號： | 201010146222.6 | 申請日： | 2010-04-14 |
| 公開（公告）號： | CN101851070A | 公開（公告）日： | 2010-10-06 |
| 發明（設計）人： | 安百軍;安百盈;張振濤;劉建 | 申請（專利權）人： | 山東帥克新能源有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/34 | 分類號： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 276211 *** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 太陽能 真空管 選擇性 吸收 涂層 制備 方法 | ||
1.太陽能真空管高選擇性吸收涂層的制備方法，其特征在于，采用磁控反應濺射法，濺射氣體為氬氣，反應氣體為高純氮氣和四氟化碳氣體，設備使用一臺三靶磁控濺射鍍膜機，首先在玻璃管內管外壁上磁控反應濺射沉積一層的氮化鈦TiN紅外反射膜，再沉積一層氮化鋁-不銹鋼AlN-SS復合吸收膜，最后沉積一層鋁-碳-氟Al-C-F復合保護膜，最終形成玻璃/氮化鈦/氮化鋁-不銹鋼/鋁-碳-氟Glass/TiN/AlN-SS/AL-C-F組成的選擇性吸收涂層；具體步驟如下：
抗紅外反射膜，氮化鈦TiN的濺射
工作壓強0.2-0.5Pa，反應氣體氮氣，氮氣量20-200Sccm，濺射厚度0.04-0.3μm；
第一復合吸收膜，氮化鋁-不銹鋼AlN-SS的濺射
工作壓強0.2-0.8Pa，反應氣體氮氣，氮氣量60-150Sccm，鋼靶電流20-40A，濺射厚度0.04-0.1μm
第二復合吸收膜，氮化鋁-不銹鋼AlN-SS的濺射
工作壓強0.2-0.8Pa，反應氣體氮氣，氮氣量60-150Sccm，鋼靶電流8-20A，濺射厚度0.04-0.15μm
抗輻射復合保護膜，鋁-碳-氟Al-C-F的濺射
工作壓強0.2-0.8Pa，反應氣體四氟化碳，四氟化碳氣量30-200Sccm，濺射厚度0.03-0.12μm。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，膜層按濺射材料分，共分四層濺射，每一層濺射膜的厚度是由相同材質的材料至少通過兩次濺射完成。
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