[發明專利]鍍膜支架及鍍膜機無效
| 申請號: | 201010144724.5 | 申請日: | 2010-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN102212783A | 公開(公告)日: | 2011-10-12 |
| 發明(設計)人: | 蔡泰生;林后堯 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;G02B1/10 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜 支架 | ||
技術領域
本發明涉及鍍膜裝置領域,尤其涉及一種鍍膜支架及包括該鍍膜支架的鍍膜機。
背景技術
于產品表面鍍功能薄膜可改善產品表面的各種性能,如于光學鏡片的表面鍍一層抗反射膜,可降低鏡片表面的反射率及入射光穿過鏡片的能量損耗。又如于某些濾光元件表面鍍一層濾光膜,可濾掉某一預定波段的光,制成各種各樣的濾光片。
為提高鏡頭模塊的成像品質,鏡頭模塊的鏡片、濾光片等光學元件的兩面都需光學鍍膜,以避免入射光于穿過每個元件時,部分入射光反射而導致光能損耗。
光學兩面鍍膜多以熱蒸鍍或濺鍍方式進行,其鍍膜過程通常包括:抽真空、加熱、一面鍍膜、冷卻、破真空、翻面光學元件、抽真空、加熱、另一面鍍膜、冷卻、破真空、取出光學元件等步驟。目前,翻面光學元件多指以人工的方式依次將鏡頭盤內的每個光學元件翻面,此舉相當耗時,效率低下。另,人工直接與光學元件直接,不可避免地污染光學元件。
因此,提供一種鍍膜支架及鍍膜機來提高鍍膜效率及減少污染實為必要。
發明內容
以下以實施方式為例說明一種提高鍍膜效率及減少污染的鍍膜支架及鍍膜機。
該鍍膜支架包括設有多個通孔的架體,多個用于承載鏡頭盤的翻轉架、多個固定軸及多個卡位裝置。每個通孔內設有一個翻轉架。該翻轉架通過至少一個固定軸與該架體相連。該翻轉架可繞該至少一個固定軸翻面。每個卡位裝置與架體相連,用于將翻面前及翻面后的該翻轉架與該架體卡緊。
該鍍膜機包括一個真空容器、設置于該真空容器內的至少一個靶材及上述鍍膜支架,該鍍膜支架與該至少一個靶材相對設置。
與現有技術相比,本技術方案的鍍膜支架直接將翻轉架翻面即可一次性地將同一個鏡頭盤內的光學元件同時翻面,提高了鍍膜效率,且避免了人工直接接觸光學元件,減少了光學元件污染。
附圖說明
圖1是本技術方案一個實施例提供的鍍膜支架的示意圖。
圖2是圖1所示鍍膜支架的局部結構的放大示意圖。
圖3是圖2所示局部結構的分解示意圖。
圖4是圖2所示局部結構的卡位件的示意圖。
圖5是圖2所示鍍膜支架的翻轉架圍繞固定軸翻轉的示意圖。
圖6是圖2所示鍍膜支架的翻轉架翻面的示意圖。
圖7是本技術方案另一個實施例提供的鍍膜機的示意圖。
主要元件符號說明
鍍膜支架??????100
架體??????????110
凹槽??????????1102
外表面????????1107
通孔??????????1101
翻轉架????????120
第一邊框??????121
第二邊框??????122
第三邊框??????123
第四邊框??????124
載板??????????125
夾持件????????126
固定端????????1261
夾持端????????1262
第一表面????????1211
第二表面????????1212
收容腔??????????127
固定軸??????????130
卡位裝置????????140
卡位件??????????141
彈性件??????????142
底壁????????????1411
連接壁??????????1412
卡位部??????????1413
鍍膜機??????????200
真空容器????????210
靶材????????????220
具體實施方式
以下結合附圖及具體實施方式對本技術方案提供的鍍膜支架及鍍膜機進行詳細說明。
參見圖1及圖4,本技術方案一實施例提供的鍍膜支架100包括架體110、多個翻轉架120、多根固定軸130及多個卡位裝置140。
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