[發明專利]硅單晶提拉用石英玻璃坩堝有效
| 申請號： | 201010143526.7 | 申請日： | 2010-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN101857969A | 公開（公告）日： | 2010-10-13 |
| 發明（設計）人： | 小玉真喜子;岸弘史;神田稔 | 申請（專利權）人： | 日本超精石英株式會社 |
| 主分類號： | C30B15/10 | 分類號： | C30B15/10 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 沈錦華 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅單晶提拉用 石英玻璃 坩堝 | ||
【權利要求書】：
1.一種硅單晶提拉用石英玻璃坩堝，其特征在于：
包括側壁部、彎曲部及底部，且包括設置在坩堝內表面側的透明石英玻璃層、及設置在坩堝外表面側的內含多個氣泡的不透明石英玻璃層，
所述透明石英玻璃層的氣泡含有率為0.1％以下，所述不透明石英玻璃層的氣泡含有率大于所述透明石英玻璃層的氣泡含有率，
所述不透明石英玻璃層所含的氣泡的直徑分布為：具有小于40μm的直徑的氣泡為10％以上且小于30％，具有40μm以上且小于90μm的直徑的氣泡為40％以上且小于80％，具有90μm以上的直徑的氣泡為10％以上且小于30％。
2.根據權利要求1所述的硅單晶提拉用石英玻璃坩堝，其特征在于：
坩堝上部的所述不透明石英玻璃層與坩堝下部的所述不透明石英玻璃層相比，具有含有更多直徑較大的氣泡的直徑分布，且具有更高的氣泡含有率。
3.根據權利要求1所述的硅單晶提拉用石英玻璃坩堝，其特征在于：
所述側壁部的所述不透明石英玻璃層與所述底部的所述不透明石英玻璃層相比，具有含有更多直徑較大的氣泡的直徑分布，且具有更高的氣泡含有率。
4.根據權利要求1所述的硅單晶提拉用石英玻璃坩堝，其特征在于：
所述不透明石英玻璃層隨著自所述底部朝向所述側壁部而具有含有更多直徑較大的氣泡的直徑分布，且具有更高的氣泡含有率。
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