[發(fā)明專利]浸沒光刻用真空系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010143405.2 | 申請(qǐng)日： | 2005-06-06 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101794081A | 公開（公告）日： | 2010-08-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | A·J·哈法姆;P·J·謝希特;P·A·斯托克曼 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 王新華 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 浸沒 光刻 真空 系統(tǒng) | ||
1.一種光刻設(shè)備，其包括用于從由可移動(dòng)的晶片載臺(tái)支撐的晶片和投 影透鏡之間的用于曝光輻射至晶片的通道抽取多相流體流的系統(tǒng)，所述系 統(tǒng)包括：
用于將從投影透鏡和晶片之間抽取的所述流體分離為氣相及液相的 分離裝置；
設(shè)置在分離裝置的下游、用于抽取分離裝置的所述流體的泵吸設(shè)備， 所述流體包括浸沒液體；
所述泵吸設(shè)備還包括用于從所述分離裝置抽取氣體的第一泵吸單元 以及用于從所述分離裝置抽取液體的第二泵吸單元；以及
壓力控制系統(tǒng)，其用于通過調(diào)節(jié)所述分離裝置內(nèi)的氣體及液體的量來(lái) 控制所述分離裝置內(nèi)的壓力。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述壓力控制系統(tǒng)包括用于從 氣源將氣體供應(yīng)至所述分離裝置的氣體供應(yīng)裝置，以及用于控制到所述分 離裝置的氣體流率的控制裝置。
3.如權(quán)利要求2所述的光刻設(shè)備，其中所述氣體供應(yīng)裝置包括可變 流率控制裝置，氣體通過該可變流率控制裝置供應(yīng)至所述分離裝置，所述 控制裝置被設(shè)置為改變所述可變流率控制裝置的電導(dǎo)來(lái)控制所述分離裝 置內(nèi)的壓力。
4.如權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其中所述控制裝置包括控制器， 所述控制器被設(shè)置為接收表示所述分離裝置內(nèi)的壓力的信號(hào)，并根據(jù)所接 收的信號(hào)來(lái)控制所述可變流率控制裝置的電導(dǎo)。
5.如權(quán)利要求4所述的光刻設(shè)備，其中所述控制器還被設(shè)置為根據(jù) 所接收的信號(hào)來(lái)控制來(lái)自所述分離裝置的氣體的流率。
6.如權(quán)利要求5所述的光刻設(shè)備，其中所述壓力控制系統(tǒng)包括另一 可變流率控制裝置，由所述第一泵吸單元從所述分離裝置通過所述另一可 變流率控制裝置抽取氣體，所述控制器被設(shè)置為根據(jù)所接收的信號(hào)來(lái)控制 所述另一可變流率控制裝置的電導(dǎo)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述壓力控制系統(tǒng)包括用于 控制來(lái)自所述分離裝置的氣體的流率的控制裝置。
8.如權(quán)利要求7所述的光刻設(shè)備，其中所述壓力控制系統(tǒng)包括可變流 率控制裝置，由所述第一泵吸單元從所述分離裝置通過所述可變流率控制 裝置抽取氣體，所述控制裝置被設(shè)置為控制所述可變流率控制裝置的電導(dǎo) 來(lái)控制所述分離裝置內(nèi)的壓力。
9.如權(quán)利要求8所述的光刻設(shè)備，其中所述控制裝置包括控制器，所 述控制器被設(shè)置為接收表示所述分離裝置內(nèi)的所述壓力的信號(hào)，并根據(jù)所 接收的信號(hào)來(lái)控制所述可變流率控制裝置的所述電導(dǎo)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述壓力控制系統(tǒng)包括用 于將液體從液源供應(yīng)至所述分離裝置的液體供應(yīng)裝置，以及用于控制至所 述分離裝置的液體的流率的控制裝置。
11.如權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備，其中所述控制裝置被設(shè)置為控制 所述分離裝置內(nèi)的液體水平。
12.如權(quán)利要求11所述的光刻設(shè)備，其中所述液體供應(yīng)裝置包括可 變流率控制裝置，液體通過所述可變流率控制裝置供應(yīng)至所述分離裝置， 所述控制裝置被設(shè)置為改變所述可變流率控制裝置的電導(dǎo)來(lái)控制所述分 離裝置內(nèi)的液體水平。
13.如權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，其中所述控制裝置包括控制器， 所述控制器被設(shè)置為接收表示所述分離裝置內(nèi)的所述液體水平的信號(hào)，并 根據(jù)所接收的信號(hào)來(lái)控制所述可變流率控制裝置的所述電導(dǎo)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述分離裝置包括抽取罐。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，包括用于將氣體從所述分離裝 置傳送至所述第一泵吸單元的撓性管路。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，包括用于將液體從所述分離裝 置傳送至所述第二泵吸單元的撓性管路。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，包括用于將液體從所述光刻設(shè) 備傳送至所述分離裝置的撓性管路。
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