[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和器件制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010143315.3 | 申請日: | 2010-03-19 |
| 公開(公告)號: | CN101840161A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | T·A·R·凡埃姆派爾;M·霍凱斯;N·E·T·詹森 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 設(shè)備 器件 制造 方法 | ||
1.一種定位設(shè)備,包括:
第一物體和第二物體;
定位系統(tǒng),其配置用以相對于彼此定位所述第一物體和所述第二物體;和
柔性傳輸線,其連接到所述第一物體和所述第二物體,所述柔性傳輸線具有沿柔性傳輸線變化的剛度,使得所述柔性傳輸線能夠由動態(tài)傳遞函數(shù)表示,所述動態(tài)傳遞函數(shù)適合于所述定位系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述柔性傳輸線具有第一鉸鏈。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中,所述柔性傳輸線包括基本上直的且尺寸穩(wěn)定的第一部分和基本上直的且尺寸穩(wěn)定的第二部分,其中所述第一部分和所述第二部分經(jīng)由第一鉸鏈連接,使得所述第一和第二部分能夠相對于彼此圍繞所述鉸鏈樞轉(zhuǎn)。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其中,所述第一鉸鏈具有在所述第一和第二部分之間的樞轉(zhuǎn)角,其中所述樞轉(zhuǎn)角具有0到360度的范圍。
5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其中,所述第一鉸鏈具有中間位置并且所述樞轉(zhuǎn)角基本上等于90度。
6.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其中,所述柔性傳輸線具有分別位于所述第一物體和所述第二物體附近的第二鉸鏈和第三鉸鏈。
7.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中,連接到所述第一物體的所述柔性傳輸線的所述第一部分設(shè)置有位于所述第一鉸鏈附近的基本上彎曲且尺寸穩(wěn)定的部分。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述柔性傳輸線是構(gòu)造并布置用以在所述定位設(shè)備的所述第一物體和所述第二物體之間傳輸介質(zhì)的軟管和/或是配置用以在所述定位設(shè)備的所述第一物體和所述第二物體之間傳輸電信息或光信息的導(dǎo)線。
9.一種光刻設(shè)備,包括:
圖案形成裝置支撐結(jié)構(gòu),其構(gòu)造用以支撐圖案形成裝置,所述圖案形成裝置能夠?qū)D案在輻射束的橫截面上賦予所述輻射束以形成圖案化的輻射束;
襯底臺,其構(gòu)造成保持襯底;
投影系統(tǒng),其配置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上;和
定位設(shè)備,所述定位設(shè)備包括
第一物體和第二物體;
定位系統(tǒng),其配置成相對于彼此定位所述第一物體和所述第二物體;和
柔性傳輸線,其連接到所述第一和第二物體,所述柔性傳輸線具有沿柔性傳輸線變化的剛度,使得所述柔性傳輸線能夠由動態(tài)傳遞函數(shù)表示,所述動態(tài)傳遞函數(shù)適合于所述定位系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函數(shù),
其中所述第一物體是長行程模塊的可移動部分,而所述第二物體是短行程模塊的可移動部分。
10.如權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備,其中,連接到所述長行程模塊的所述可移動部分的所述柔性傳輸線的第一部分的方向基本上平行于所述可移動部分的第一移動方向。
11.如權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備,其中,所述第一移動方向是掃描方向。
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