[發明專利]電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具和罩固定裝置

有效

• 申請號: 201010141151.0
• 申請日: 2010-03-25
• 公開（公告）號: CN101848596A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發明（設計）人: 佐藤亮;齊藤均;天野健次
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，該電感耦合等離子處理裝置包括：處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，其用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定器具用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于，

包括：

支承部，其用于對具有作為上述罩的一部分的下表面的被支承部進行支承；

被固定部，其被固定于上述支承構件。

2.根據權利要求1所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具還具有用于將上述被固定部固定于上述支承構件的螺釘。

3.根據權利要求2所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述螺釘的頭部被配置在上述支承構件的上方，上述螺釘的桿部貫穿上述支承構件而與上述被固定部相結合。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述支承部包括：抵接于上述被支承部的下表面的上表面；隨著遠離上述被固定部而與上述上表面的距離變小的下表面。

5.根據權利要求1～3中任一項所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述被支承部的下表面是上述罩的下表面的一部分，在上述罩的下表面，以上述被支承部的下表面位于除上述被支承部之外的部分的下表面的上方的方式形成有臺階部；

上述支承部被配置在上述罩的下表面上的上述臺階部。

6.根據權利要求5所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述支承部具有與上述臺階部的臺階相等的厚度。

7.根據權利要求1所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具還包括如下形狀的側部：在2個罩固定器具沿水平方向相鄰地配置時、2個罩固定器具的側部相互嚙合。

8.根據權利要求1所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定器具，其特征在于，

上述罩包括罩主體，該罩主體具有下表面和上表面，構成罩的主要部分，上述被支承部被配置在上述罩主體的上表面的上方；

上述支承部被配置在上述被支承部的下表面與上述罩主體的上表面之間。

9.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，該電感耦合等離子處理裝置包括：處理室，其具有構成頂板部分的窗構件，用于進行等離子處理；高頻天線，其被配置在上述窗構件的上方，用于在上述處理室內形成感應電場；支承構件，用于支承上述窗構件；罩，用于覆蓋上述窗構件的下表面，上述罩固定裝置用于上述電感耦合等離子處理裝置，用于固定上述罩，其特征在于，

上述電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置包括：權利要求1或8所述的罩固定器具；將上述罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承構件的固定機構。

10.根據權利要求9所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，其特征在于，

上述固定機構是提起上述被固定部的機構。

11.根據權利要求9所述的電感耦合等離子處理裝置的罩固定裝置，其特征在于，

上述固定機構是對上述被固定部的上下方向的移動進行限制的機構。