[發明專利]流體供給裝置、流體噴射裝置及流體供給方法

無效

• 申請號: 201010140249.4
• 申請日: 2010-03-24
• 公開（公告）號: CN101844450A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發明（設計）人: 小泉義弘;橫內秀彌
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/175
• 分類號: B41J2/175;B41J2/01;F04B43/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王軼;李偉

1.一種流體供給裝置，其特征在于，具有：

流體供給流路，其從作為液體供給源側的上游側向下游側供給流體；

泵，其將該流體供給流路的一部分作為泵室，并通過使能夠以增減該泵室的容積的方式變位的第一變位部變位來進行泵驅動；

閉塞機構，其將比上述泵室靠下游側的上述流體供給流路的一部分作為壓力室，能夠以增減該壓力室的容積的方式進行變位的第二變位部，根據從上述流體供給流路的下游側賦予的負壓，向減少上述壓力室的容積的方向變位，從而閉塞上述流體供給流路；以及，

開放機構，其對經由上述第二變位部與上述壓力室鄰接的減壓室內進行減壓，對上述第二變位部作用負壓，從而使上述第二變位部向增加上述壓力室的容積的方向變位，將上述流體供給流路開放。

2.根據權利要求1所述的流體供給裝置，其特征在于，上述泵進行如下的吸引驅動，即、上述開放機構對經由上述第一變位部與上述泵室鄰接的變壓室內進行減壓，從而上述第一變位部向增加上述泵室的容積的方向變位，將上述流體抽入到上述泵室內。

3.根據權利要求2所述的流體供給裝置，其特征在于，上述開放機構構成為，經由與上述變壓室連接的第一流路對上述變壓室內減壓，并經由與上述減壓室連接的第二流路對上述減壓室內減壓，其中，

上述第二流路的流路阻力比上述第一流路大。

4.一種流體噴射裝置，其特征在于，具有：噴射流體的流體噴射頭；從流體供給源側向上述流體噴射頭側供給上述流體的權利要求1～權利要求3中任一項所述的流體供給裝置。

5.一種流體供給方法，其特征在于，

能夠以增減構成流體供給流路的一部分的泵室的容積的方式進行變位的第一變位部變位來進行泵驅動，從而從作為液體供給源側的上游側向下游側供給流體，

該流體供給方法包括：

閉塞階段，在上述泵室的下游側，能夠以增減構成上述流體供給流路的一部分的壓力室的容積的方式進行變位的第二變位部，根據從上述流體供給流路的下游側作用的負壓，向減少上述壓力室的容積的方向變位，將上述流體供給流路閉塞；

開放階段，一邊抑制上述第一變位部向增加上述泵室的容積的方向變位，一邊對經由上述第二變位部與上述壓力室鄰接的減壓室內減壓，對上述第二變位部作用負壓，由此，使上述第二變位部向增加上述壓力室的容積的方向變位，將上述流體供給流路開放。