[發明專利]等離子體處理裝置以及等離子體處理方法

有效

• 申請號: 201010139864.3
• 申請日: 2010-03-30
• 公開（公告）號: CN101853765A
• 公開（公告）日: 2010-10-06
• 發明（設計）人: 輿水地鹽
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/30;H01J37/24
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;陳立航

1.一種等離子體處理裝置，該等離子體處理裝置是在處理容器內的等離子體處理空間中對被處理體進行等離子體處理，其特征在于，具備：

調節部件，其設置成至少一部分與上述處理容器內的等離子體存在區域相接觸；以及

阻抗調節電路，其與上述調節部件相連接，通過控制上述調節部件與接地面之間的電連接狀態來調節上述等離子體處理空間的接地電容。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述阻抗調節電路包括一端被接地的開關機構，通過使用該開關機構調節上述調節部件的接地面積來調節上述等離子體處理空間的接地電容。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述阻抗調節電路包括可變電容器，通過使用該可變電容器調節上述調節部件的電連接狀態來調節上述等離子體處理空間的接地電容。

4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件相對于排氣方向平行地被設置。

5.根據權利要求4所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件設置在擋板的內部空間中，該擋板設置在載置臺的外周上。

6.根據權利要求5所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件以上述擋板為中心放射狀地被配置了多個。

7.根據權利要求5所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件以上述擋板為中心在圓周方向上被配置了一個或者兩個以上。

8.根據權利要求6所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件對稱地被配置了多個。

9.根據權利要求6所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述調節部件等間隔地被配置了多個。

10.根據權利要求6所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述阻抗調節電路中所包括的多個開關機構或者多個可變電容器的至少一種，分別與上述多個調節部件的各個一對一地相連接。

11.根據權利要求10所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

上述阻抗調節電路通過對每個上述開關機構或者每個上述可變電容器的控制來調節上述等離子體處理空間的接地電容。

12.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

具備控制裝置，該控制裝置具有存儲器，根據預先存儲在上述存儲器中的制法來控制上述阻抗調節電路。

13.一種使用了等離子體處理裝置的等離子體處理方法，該等離子體處理方法是在處理容器內的等離子體處理空間中對被處理體進行等離子體處理，其特征在于，

在上述等離子體處理裝置中，調節部件被設置成至少一部分與上述處理容器內的等離子體存在區域相接觸，

通過與上述調節部件相連接的阻抗調節電路，控制上述調節部件與接地面之間的電連接狀態來調節上述等離子體處理空間的接地電容。