[發(fā)明專利]基板的保護(hù)方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010138128.6 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102207648A | 公開(公告)日: | 2011-10-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周偉峰;郭建;明星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 保護(hù) 方法 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜晶體管液晶顯示器(Thin?Film?Transistor-Liquid?CrystalDisplay,簡(jiǎn)稱TFT-LCD)領(lǐng)域,尤其涉及一種基板的保護(hù)方法和設(shè)備。
背景技術(shù)
在平板顯示技術(shù)中,TFT-LCD具有體積小、功耗低、無輻射、制造成本相對(duì)較低等特點(diǎn),在當(dāng)前的平板顯示器市場(chǎng)占據(jù)了主導(dǎo)地位。
隨著液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display,簡(jiǎn)稱LCD)生產(chǎn)的不斷擴(kuò)大,各個(gè)生產(chǎn)廠商之間的競(jìng)爭(zhēng)也日趨激烈,各廠家在不斷提高產(chǎn)品性能的同時(shí),也再不斷努力降低產(chǎn)品的生產(chǎn)成本,從而提高市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力。
基板是陣列基板與彩膜基板制備的基體,是TFT-LCD生產(chǎn)的基本單元。TFT-LCD的生產(chǎn)需要在潔凈的環(huán)境中進(jìn)行,掉落在基板上的灰塵會(huì)影響產(chǎn)品的質(zhì)量,導(dǎo)致降低產(chǎn)品的良品率。
目前,對(duì)于正常生產(chǎn)的基板在進(jìn)行下一步工序前需要進(jìn)行清洗工序,清洗的液體為去離子水。對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間保存后再進(jìn)行下一步工序的基板,則往往通過利用光刻設(shè)備在基板上涂覆一層光刻膠,從而對(duì)基板進(jìn)行保護(hù),當(dāng)進(jìn)行下步工序時(shí)再用剝離液將光刻膠剝離。
發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)上述方法時(shí)發(fā)現(xiàn),現(xiàn)有技術(shù)對(duì)基板的保護(hù)至少存在以下問題:涂覆光刻膠的光刻設(shè)備成本高速度慢,對(duì)需要長(zhǎng)時(shí)間保存后再進(jìn)行下一步工序的基板涂覆光刻膠,涂覆光刻膠需要1.5小時(shí)左右,剝離光刻膠需要0.5小時(shí)左右,即總共需要2小時(shí)才能完成玻璃基板的保護(hù),耗時(shí)長(zhǎng),效率低;而且,光刻膠、剝離液等原材料價(jià)格較高,直接造成了產(chǎn)品造價(jià)過高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種基板的保護(hù)方法和設(shè)備,能夠通過改進(jìn)對(duì)基板的保護(hù)工藝,提高產(chǎn)品的制備效率和降低產(chǎn)品造價(jià)。
一種基板的保護(hù)方法,包括:
在基板上形成圖形的一側(cè)均勻地覆上一層保護(hù)材料;
將覆上了一層保護(hù)材料的基板加熱,使所述保護(hù)材料完全融化;
將所述基板冷卻,使融化了的保護(hù)材料凝固并形成覆蓋所述基板的保護(hù)層。
在所述將所述基板冷卻,使融化了的保護(hù)材料凝固并覆蓋所述基板形成保護(hù)層之后,還包括:
用清洗液清洗所述基板,使所述保護(hù)層溶于所述清洗液中。
所述在基板上形成圖形的一側(cè)均勻地覆上一層保護(hù)材料為:在基板上形成圖形的一側(cè)均勻地噴灑一層保護(hù)材料,或?qū)⑺龌逍纬蓤D形的一側(cè)朝下放入盛滿保護(hù)材料的容器中,使所述基板上形成圖形的一側(cè)均勻地覆上一層保護(hù)材料。
當(dāng)將所述基板形成圖形的一側(cè)朝下放入盛滿保護(hù)材料的容器中,使所述基板上形成圖形的一側(cè)均勻地覆上一層保護(hù)材料時(shí),所述將所述基板冷卻,使融化了的保護(hù)材料凝固并形成覆蓋所述基板的保護(hù)層包括:
將所述基板翻轉(zhuǎn)為吸附了保護(hù)材料的一側(cè)朝上;
將所述基板冷卻,使融化了的保護(hù)材料凝固并覆蓋所述基板形成保護(hù)層。
所述保護(hù)材料為粉末狀的葡萄糖、果糖、聚乙烯醇或十二烷基苯磺酸鈉。
一種基板的保護(hù)設(shè)備,包括:
涂敷單元,用于在基板上形成圖形的一側(cè)均勻地覆上一層保護(hù)材料;
加熱單元,用于將覆上了一層保護(hù)材料的基板加熱,使所述保護(hù)材料完全融化;
冷卻單元,用于將所述基板冷卻,使融化了的保護(hù)材料凝固并形成覆蓋所述基板的保護(hù)層。
所述涂敷單元包括:用于噴灑所述保護(hù)材料的噴嘴;
所述加熱單元包括:用于容置并加熱所述基板的加熱腔體。
所述加熱腔體設(shè)置有容置多塊基板的隔層。
所述噴嘴設(shè)置于所述加熱腔體對(duì)應(yīng)每個(gè)隔層上方的入口處。
所述涂敷單元包括:盛滿所述保護(hù)材料的容器;
所述加熱單元包括:吸附并加熱所述基板的吸板。
所述容器內(nèi)設(shè)置有攪拌葉片。
在本發(fā)明的技術(shù)方案中,通過將基板上覆上一層保護(hù)材料,該保護(hù)材料在高溫下融化,從而均勻地覆蓋在基板上形成保護(hù)層,從而起到保護(hù)基板的作用,該保護(hù)方法耗時(shí)短,易于實(shí)現(xiàn),提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)效率,并且保護(hù)材料選用造價(jià)低和易溶于清洗液的材質(zhì),清洗方便,也降低了產(chǎn)品的造價(jià)。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明方法實(shí)施例一基板的保護(hù)方法流程圖;
圖2為本發(fā)明方法實(shí)施例一基板的保護(hù)方法之工作示意圖;
圖3為本發(fā)明方法實(shí)施例二基板的保護(hù)方法流程圖;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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