[發明專利]工業射線膠片專用脫水劑

有效

• 申請號: 201010136446.9
• 申請日: 2010-03-31
• 公開（公告）號: CN101798549A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 劉書強;史小萌;昝立偉
• 申請（專利權）人: 天津美迪亞影像材料有限公司
• 主分類號: C11D1/83
• 分類號: C11D1/83;C11D1/04;C11D3/22;C11D3/20;C11D3/08
• 代理公司: 天津市三利專利商標代理有限公司 12107
• 代理人: 閆俊芬

技術領域

本發明涉及工業射線膠片手動沖洗加工過程，具體地說，是涉及工業射線膠片在手動沖洗加工過程底片脫水的專用脫水劑。

背景技術

工業射線膠片底片影像信息直觀、檔案保存性，在傳統銀鹽感光材料與新型數字信息記錄材料、常規射線照相檢測技術與數字射線檢測等新型檢測技術的競爭發展中，得到人們的重新認識和肯定。工業射線膠片的產品特點：涂層厚、沖洗加工過程中吸水漲量大，應用特點：手動沖洗占相當比例，用戶分布廣、氣候迥異、沖洗過程中水質條件差異大，沖洗套藥生產廠家多、良莠不齊。工業射線底片水漬，是膠片手動沖洗加工過程的常見偽缺陷，對于底片記錄的檢測影像信息形成干擾噪聲。

底片水漬形成的直接原因，在底片水洗后、干燥過程中，涂層與水的潤濕作用不一致、干燥速度不均勻。從膠片角度，涂層成份設計、作為涂布助劑的表面活性劑應用以及涂層堅膜劑使用，影響水漬的形成；從沖洗過程而言，沖洗套藥的選擇、沖洗溫度控制能否保證涂層堅膜效果、操作現場配制、沖洗用水的水質條件，則是形成水漬的關鍵環節。

膠片手動沖洗常規程序：用戶解決底片水漬問題，常采用：在常規程序的第④環節后增加一個脫水環節⑤。

即，底片水洗后，在含少量洗潔凈的自來水中浸潤底片，然后，進行底片干燥。

由于各種家用洗潔凈配方的化學成份各異、膠片沖洗人員加入量的不確定，造成手動沖洗加工底片質量的不穩定，甚至在脫水環節對底片產生新污染。

發明內容

本發明提供一種工業射線膠片專用脫水劑配方，避免底片在沖洗加工底片脫水處理過程中產生水漬，同時提高底片干燥效率。

本發明工業射線膠片專用脫水劑，其特征是，由下述組分按照所述重量濃度組成：C_12-14脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸鹽類陰離子型表面活性劑1～5‰、聚氧乙烯烷基酚醚類非離子型表面活性劑1～5‰、檸檬酸鈉型促進劑0.2～1‰、硅酸鈉型PH調節劑0.05～0.25‰和羧甲基纖維素鈉鹽影像穩定劑0.01～0.05‰，余量為水。

表面活性劑分子結構中，疏水親油的碳氫鏈組成的非極性基團和親水疏油的極性基團分別處于兩個端基，具有在溶液表面的定向吸附特性，能顯著降低水的表面張力，改變固體表面的潤濕性，兼具較好的滲透和潤濕功能。

本發明工業射線膠片專用脫水劑，用于膠片沖洗加工的底片脫水環節。配方設計的主要依據：1805年Young提出的平衡接觸角的楊氏方程；固體表面可分為高能表面和低能表面，Fox和Zisman提出的臨界表面張力概念，進一步修正了楊氏方程在低能表面潤濕性方面的應用(膠片表面涂層成份主要是有機化合物、有機高聚物，表面能小于100mJ.m^-2，屬于低能表面)。

具體實施方式

下面對本發明做進一步描述。

本發明首先篩選陰離子型和非離子型表面活性劑組合。

適用的陰離子型表面活性劑有α-烯烴磺酸鹽類、C_14-15脂肪醇醚硫酸鹽和C_12-14脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸鹽，定義為AS1、AS2、AS3。

陰離子型表面活性劑篩選實驗：

任意取3片工業射線膠片樣品(規格：80*360mm)，每1片均分為3份，分別編號為1#-1、1#-2和1#-3，2#-1～3，3#1～3。按照常規、標準手動沖洗程序，加工至底片水洗結束。使用相同濃度(1～5‰)的陰離子型表面活性劑水溶液浸潤底片0.5分鐘，然后在相同條件下進行底片干燥，Tg是干片時間。

以上實驗條件下，使用AS3表面活性劑，干片時間最短。

適用的非離子型表面活性劑有聚氧乙烯烷基酚醚型和脂肪酸多元醇酯型，定義為NS1、NS2。

非離子型+陰離子型表面活性劑組合篩選實驗：

任意取2片工業射線膠片樣品(規格：80*240mm)，每1片均分為2份，分別編號為1#-1和1#-2，2#-1～2。按照常規、標準手動沖洗程序，加工至底片水洗結束。濃度(1～5‰)AS3陰離子型表面活性劑水溶液與非離子型表面活性劑組合(其濃度控制為1～5‰)。底片浸潤0.5分鐘，然后在相同條件下進行底片干燥，水漬程度表示為M(“0”無水漬，“1”輕度水漬，“2”嚴重水漬)。

上述實驗條件下，使用NS1非離子型表面活性劑，水漬程度較輕。