[發(fā)明專利]抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010135186.3
• 申請日: 2010-03-11
• 公開（公告）號: CN102190956A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 莊文斌;陳魏素美;沈永清;張義和
• 申請（專利權(quán)）人: 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號: C09D183/10
• 分類號: C09D183/10;C09D5/00;G02B1/11
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 陳紅

1.一種抗反射涂布材料，包括以下步驟所得的產(chǎn)物：

提供一聚硅倍半氧烷；

將該聚硅倍半氧烷與一硅氧烷化合物反應(yīng)得到一中間產(chǎn)物；

將該中間產(chǎn)物與一低折射率化合物反應(yīng)，得到抗反射涂布材料。

2.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該聚硅倍半氧烷包含具有如公式(I)所示結(jié)構(gòu)的化合物：

(R¹SiO_(3-x)/2(OH)_x)_n??公式(I)，

其中，X是各自獨立且為1或2；n為大于或等于1的整數(shù)；R¹是各自獨立且為氫、烷基、或芳香基。

3.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該硅氧烷化合物包含具有如公式(II)所示結(jié)構(gòu)的化合物：

Si(OR²)₄??公式(II)，

其中，R²是各自獨立且為烷基。

4.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該低折射率化合物為氟硅氧烷、或具有反應(yīng)官能基的氟烷化合物。

5.如權(quán)利要求4所述的抗反射涂布材料，其中該具有反應(yīng)官能基的氟烷化合物的該反應(yīng)官能基為羧基、環(huán)氧基、或異氰酸鹽基。

6.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該硅氧烷化合物具有重量百分比不大于50wt％，以該聚硅倍半氧烷的重量為基準。

7.如權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料，其中該低折射率化合物具有重量百分比不大于50wt％，以該聚硅倍半氧烷的重量為基準。

8.一種抗反射涂膜，是由下列步驟所形成的產(chǎn)物：

將權(quán)利要求1所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布層；以及

將該涂布層固化以形成一抗反射涂膜。

9.如權(quán)利要求8所述的抗反射涂膜，其中固化該涂布層的溫度小于100℃。

10.一種抗反射涂布材料，符合下列公式(III)所示結(jié)構(gòu)：

公式(III)，

其中，D是聚硅倍半氧烷除去m個羥基之氫的殘基；E是各自獨立且為其中R³是氟烷基，i為0、1或2，j為1、2或3，且i+j是等于3；y為1、2或3，z為0、1、或2，且y+z是等于3；以及，m為大于或等于1的整數(shù)。

11.如權(quán)利要求10所述的抗反射涂布材料，其中D的每一Si原子是與一官能基鍵結(jié)，而該官能基為氫、烷基、或芳香基。

12.一種抗反射涂膜，是由下列步驟所形成的產(chǎn)物：

將權(quán)利要求10所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布層；以及

將該涂布層固化以形成一抗反射涂膜。

13.如權(quán)利要求12所述的抗反射涂膜，其中固化該涂布層的溫度是小于100℃。