[發(fā)明專利]制造半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010134798.0 | 申請日: | 2010-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN102194707A | 公開(公告)日: | 2011-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈更新 | 申請(專利權(quán))人: | 南茂科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/60;H01L21/56;H01L25/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 任永武 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種制造半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于,包含下列步驟:
(a)形成具有一封裝陣列的一基板,其中所述封裝陣列具有多個接墊及一保護(hù)層,這些接墊暴露于所述保護(hù)層之外;
(b)形成一熱固性非導(dǎo)電層覆蓋所述基板;
(c)部份固化所述熱固性非導(dǎo)電層以形成一半固化非導(dǎo)電層;
(d)接合多個芯片至所述基板的所述封裝陣列上,其中各所述芯片具有一有源面、多個焊墊及多個復(fù)合凸塊,這些焊墊形成于所述有源面上,這些復(fù)合凸塊形成于這些焊墊上,使各所述復(fù)合凸塊電性連接各所述接墊;
(e)施壓加熱這些芯片及所述基板,使所述半固化非導(dǎo)電層黏結(jié)這些芯片及所述基板;
(f)預(yù)熱一金屬板上預(yù)先形成的一封膠材;
(g)覆蓋所述封膠材于所述基板上的這些芯片;以及
(h)固化所述封膠材以完全覆蓋所述基板上的這些芯片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述(c)步驟中的部份固化可使用紫外光照射方式或加熱烘烤方式。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述(e)步驟是更進(jìn)一步固化所述半固化非導(dǎo)電層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述(h)步驟是使用加熱方式固化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述(h)步驟是同時固化所述封膠材與所述半固化非導(dǎo)電層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,形成各所述復(fù)合凸塊的步驟還包含:
形成一下金屬層于各所述焊墊上;
形成一第一導(dǎo)體層于所述下金屬層上;以及
形成一第二導(dǎo)體層于所述第一導(dǎo)體層上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,形成所述第二導(dǎo)體層的步驟后還包含:
形成一覆蓋導(dǎo)體層,覆蓋所述第二導(dǎo)體層、所述第一導(dǎo)體層以及所述下金屬層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,形成所述覆蓋導(dǎo)體層的步驟是以金形成所述覆蓋導(dǎo)體層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,形成所述第一導(dǎo)體層的步驟后還包含:
形成一阻障層于所述第一導(dǎo)體層及所述第二導(dǎo)體層之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,形成所述阻障層的步驟是以鎳形成所述阻障層。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,形成所述第二導(dǎo)體層的步驟是以選自由下列材料所組成的一群組:金、銅、銀、錫、鋅、銦及其組合形成所述第二導(dǎo)體層。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,形成所述第一導(dǎo)體層的步驟是以選自由下列材料所組成的一群組:銅、鎳、鋁、鋅及其組合形成所述第一導(dǎo)體層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南茂科技股份有限公司,未經(jīng)南茂科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010134798.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種黑蒜及其發(fā)酵方法
- 下一篇:多彩圖文面片及其制作方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





