[發(fā)明專利]碳化硅耐火材料中總硅含量的測定方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010133959.4 | 申請日: | 2010-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN101839862A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陶俊;李玉清;曾海梅;陳濤;李文生;許涯平;鄭玲;王磊;高玲;高麗萍;李宏萍 | 申請(專利權(quán))人: | 武鋼集團昆明鋼鐵股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/73 | 分類號: | G01N21/73;G01N1/44;G01N1/38 |
| 代理公司: | 昆明正原專利代理有限責(zé)任公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
| 地址: | 650302 云南省*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 碳化硅 耐火材料 中總硅 含量 測定 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種測定方法,尤其是一種碳化硅耐火材料中總硅含量的測定方法,屬于檢測技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
碳化硅耐火材料中總硅含量的測定,按現(xiàn)行的國家標(biāo)準(zhǔn)是分別測定碳化硅量、游離硅量、二氧化硅量,再換算成總硅含量。其中,碳化硅量的測定有間接法、直接法、高壓溶樣重量法、氫氟酸揮散重量法;游離硅量的測定有氣體容量法、光度法;二氧化硅量的測定為光度法。而采用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法直接測定碳化硅耐火材料中的總硅含量難度較大,目前還沒有行之有效的方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種碳化硅耐火材料中總硅含量的測定方法。
本發(fā)明通過下列技術(shù)方案完成:一種碳化硅耐火材料中總硅含量的測定方法,包括用常規(guī)電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定,其特征在于測定前對碳化硅耐火材料試樣進行下列處理:
A、將碳化硅耐火材料試樣于700~900℃溫度下灼燒10~15min,冷卻;
B、按混合熔劑∶試樣=20~30∶1的質(zhì)量比,將混合熔劑與試樣混合成混合物,其中混合熔劑質(zhì)量比為:無水碳酸鈉∶硼酸=2∶1;
C、將上述混合物于700~900℃溫度下加熱20~40min,再在900~1200℃溫度下加熱20~40min,直至試樣完全熔解成透明狀熔融體,冷卻;
D、按70~100ml/g的量加入稀鹽酸,稀鹽酸的體積比為:HCl+H2O=1+5,溶解上述透明狀熔融體至完全溶解,得溶解液;
E、將上述溶解液用水稀釋至質(zhì)量濃度為3.8~5.1%,得待測試樣溶液。
所述步驟B中的無水碳酸鈉和硼酸為分析純市購產(chǎn)品。
所述步驟D中的鹽酸為分析純市購產(chǎn)品。
硅標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備包括以下步驟:
a、將市購的基準(zhǔn)純二氧化硅(99.9%以上)于1000℃下灼燒1h,冷卻、干燥;
b、按二氧化硅∶無水碳酸鈉=20~25∶1的質(zhì)量比,將二氧化硅與無水碳酸鈉混合,升溫至950℃,使混合物加熱至透明,再繼續(xù)加熱3min,冷卻成熔塊;
c、加入50~100ml水,將熔塊浸入水中至完全溶解,冷卻得溶解液,用水稀釋至200μg硅/mL溶液;
d、在五個100mL容量瓶中,分別加入10mL空白溶液;
e、在上述五個100mL的容量瓶中,分別按表1列出的量,將步驟2C的硅溶液加入其中,用水稀釋至刻度,搖勻,得硅標(biāo)準(zhǔn)系列溶液;
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點和效果:采用上述方案制成待測試樣溶液后,即可用現(xiàn)有技術(shù)中的電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法,直接測定碳化硅耐火材料中的總硅含量,不僅操作方便,而且測定的總硅含量準(zhǔn)確率高,其測定結(jié)果有良好的穩(wěn)定性、重現(xiàn)性和準(zhǔn)確性,試驗證明方法可靠、實用,能滿足日常測定碳化硅耐火材料中的總硅含量的需要。
具體實施方式
下面結(jié)合實施例對本發(fā)明做進一步描述。
實施例1
1、碳化硅耐火材料試液的制備:
1A、將碳化硅耐火材料試樣于700℃溫度下灼燒15min,冷卻;
1B、按混合熔劑∶試樣=20∶1的質(zhì)量比,將混合熔劑與試樣混合成混合物,其中混合熔劑質(zhì)量比為:無水碳酸鈉∶硼酸=2∶1;
1C、將上述混合物于700℃溫度下加熱40min,再在900℃溫度下加熱40min,直至試樣完全熔解成透明狀熔融體,冷卻;
1D、按70ml/g的量加入稀鹽酸溶解上述透明狀熔融體至完全溶解,得溶解液,稀鹽酸的體積比為:HCl+H2O=1+5;
1E、將上述溶解液用水稀釋至質(zhì)量濃度為3.8%,待測試樣溶液;
2、硅標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備:
2A、將市購的基準(zhǔn)純二氧化硅(99.9%以上)于1000℃下灼燒1h,冷卻、干燥;
2B、按二氧化硅∶無水碳酸鈉=20∶1的質(zhì)量比,將二氧化硅與無水碳酸鈉混合,升溫至950℃,使混合物加熱至透明,再繼續(xù)加熱3min,冷卻成熔塊;
2C、加入50ml水,將熔塊浸入水中至完全溶解,冷卻得溶解液,用水稀釋至200μg硅/mL溶液;
2D、在五個100mL容量瓶中,分別加入10mL空白溶液;
2E、在上述五個100mL的容量瓶中,分別按表1列出的量,將步驟2C的硅溶液加入其中,用水稀釋至刻度,搖勻,得硅標(biāo)準(zhǔn)系列溶液;
3、硅的測定:
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





