[發(fā)明專利]成膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010133561.0
• 申請日: 2010-03-15
• 公開（公告）號: CN101831632A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 加藤壽;本間學(xué);菊地宏之
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種成膜裝置，該成膜裝置在真空容器內(nèi)將反應(yīng)氣體供給到基板的表面上從而形成薄膜，其中，

該成膜裝置包括：

載置臺，其設(shè)在上述真空容器內(nèi)，且具有沿著以該載置臺的中心部為中心的圓而形成的用于載置基板的載置區(qū)域；

主氣體供給部，其為了將反應(yīng)氣體供給到上述載置臺的上述載置區(qū)域而與上述載置臺相對設(shè)置；

補償用氣體供給部，其為了對由上述主氣體供給部供給的反應(yīng)氣體的在上述載置臺的半徑方向上的氣體濃度分布進行補償而將上述反應(yīng)氣體供給到上述載置臺的表面上；

旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，其用于使上述載置臺以該載置臺的中心部為旋轉(zhuǎn)軸而繞鉛垂軸線方向相對于上述主氣體供給部和補償用氣體供給部進行相對旋轉(zhuǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述補償用氣體供給部由補償用氣體噴嘴構(gòu)成，該補償用氣體噴嘴被設(shè)置成自上述載置臺的中心部和周緣部的一側(cè)向另一側(cè)延伸，且至少在其長度方向上的一部分上形成有氣體噴出口。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中，

上述補償用氣體供給部包括多個上述補償用氣體噴嘴，沿載置臺的半徑方向觀察時，上述多個補償用氣體噴嘴的形成有氣體噴出口的區(qū)域互不相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中，

上述補償用氣體噴嘴包括：

外管，其沿著自上述載置臺的中心部和周緣部的一側(cè)朝著另一側(cè)的長度方向形成有氣體噴出口；

棒狀體，其由隔著間隙與上述外管呈同心狀地設(shè)在該外管的內(nèi)部的、管體和桿體中的任一種構(gòu)件構(gòu)成；

傳導(dǎo)性調(diào)整構(gòu)件，其為了調(diào)整上述外管的氣體噴出口的上方側(cè)的傳導(dǎo)性，設(shè)置在上述棒狀體的長度方向上的至少一部分上；

移動機構(gòu)，其為了使上述傳導(dǎo)性調(diào)整構(gòu)件在接近上述外管的氣體噴出口的位置與遠離該噴出口的位置之間進行移動而使上述棒狀體和上述外管進行相對移動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置，其中，

上述棒狀體由將反應(yīng)氣體供給到成膜裝置的內(nèi)部的管體構(gòu)成，上述傳導(dǎo)性調(diào)整構(gòu)件是形成在上述管體上的氣體噴出口。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的成膜裝置，其中，

上述移動機構(gòu)是為了使形成在上述管體上的氣體噴出口接近上述外管的氣體噴出口而使上述管體繞水平軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其中，

在上述補償用氣體噴嘴上形成有多個上述氣體噴出口，上述多個氣體噴出口形成在上述管體的周向上的不同區(qū)域且上述管體的長度方向上的不同區(qū)域；

上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)為了使形成在上述管體的周向上的不同區(qū)域的上述多個氣體噴出口接近上述外管的氣體噴出口，使上述管體繞水平軸線旋轉(zhuǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置，其中，

上述棒狀體由桿體構(gòu)成，上述傳導(dǎo)性調(diào)整構(gòu)件是覆蓋上述外管的氣體噴出口地設(shè)在上述桿體周圍的凸部。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的成膜裝置，其中，

上述移動機構(gòu)是為了使上述凸部接近上述外管的氣體噴出口而使上述桿體繞水平軸線旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的成膜裝置，其中，

在上述桿體的周圍形成有多個上述凸部，上述多個凸部設(shè)在上述桿體的周向上的不同區(qū)域且設(shè)在上述桿體的長度方向上的不同區(qū)域；

上述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)為了使上述多個凸部接近上述外管的氣體噴出口而使上述桿體繞水平軸線旋轉(zhuǎn)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述主氣體供給部包括第1主氣體供給部和第2主氣體供給部，該第1主氣體供給部和第2主氣體供給部為了將第1反應(yīng)氣體以及與該第1反應(yīng)氣體反應(yīng)的第2反應(yīng)氣體供給到上述載置臺的表面上而沿主氣體供給部相對于上述載置臺的相對旋轉(zhuǎn)方向彼此分開；

上述成膜裝置還具有分離區(qū)域，該分離區(qū)域為了使被供給上述第1反應(yīng)氣體的第1處理區(qū)域與被供給第2反應(yīng)氣體的第2處理區(qū)域的氣氛分離而在上述移動方向上位于上述第1處理區(qū)域和上述第2處理區(qū)域之間；

在上述真空容器內(nèi)按順序?qū)⒒ハ喾磻?yīng)的上述第1反應(yīng)氣體和上述第2反應(yīng)氣體供給到基板的表面上且執(zhí)行該供給循環(huán)，從而層疊多層反應(yīng)生成物的層而形成薄膜。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的成膜裝置，其中，

上述分離區(qū)域包括：分離氣體供給部，其用于供給分離氣體；頂面，其位于上述分離氣體供給部的上述旋轉(zhuǎn)方向兩側(cè)，且在該頂面與載置臺之間形成用于使分離氣體自該分離區(qū)域流到處理區(qū)域側(cè)的狹窄的空間。