[發明專利]一種納米級尺寸結構測量方法及裝置

有效

• 申請號: 201010133464.1
• 申請日: 2010-03-29
• 公開（公告）號: CN101799273A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發明（設計）人: 劉世元;張傳維;史鐵林;陳修國
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B11/24;G01B9/04
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 曹葆青

1.一種納米級尺寸結構測量方法，其特征在于：

第1步　白光光束經濾光、起偏后垂直投射到包含納米級尺寸結構的樣件表面，投射到樣件表面的線性偏振光束波長為400~600nm；

第２步　投射光束經樣件表面反射，利用置于樣件共軛面上的電荷耦合器接收該反射信號，計算得到納米級尺寸結構的顯微成像圖；

第３步　將樣件在最佳焦平面附近垂直移動，得到不同離焦位置的納米級尺寸結構的顯微成像圖；

第４步　將各離焦位置的顯微成像圖按離焦量進行組合，得到該納米級尺寸結構的測量離焦掃描成像分布圖；

第５步　對不同類型的納米級尺寸結構進行仿真，得到納米級尺寸結構對應的理論離焦掃描成像分布圖；

第６步　將測量離焦掃描成像分布圖與理論離焦掃描成像分布圖進行匹配，提取得到待測納米級尺寸結構的幾何參數值。

2.一種實現權利要求1所述納米級尺寸結構測量方法的裝置，其特征在于：

該裝置包括白光光源（11），彩色濾光片（12），偏振片（13），小孔光闌（14），視場透鏡（15），分光鏡（16），第一物鏡（17），納米級垂直平移臺（19），第二物鏡（20），平面反射鏡（21），圖像采集卡（22），計算機（23）以及運動控制器（24）；

白光光源（11），彩色濾光片（12），偏振片（13），小孔光闌（14），視場透鏡（15），分光鏡（16），第一物鏡（17）依次位于同一光路上，納米級垂直平移臺（19）位于第一物鏡（17）的出射光路上，光束經第一物鏡（17）匯聚后垂直投射到納米級垂直平移臺上；第二物鏡（20）與第一物鏡（17）相對于分光鏡（16）的反射點對稱放置，平面反射鏡（21）位于第二物鏡（20）出射光路上，圖像采集卡（22）位于平面反射鏡（21）出射光路上，計算機（23）分別與圖像采集卡（22）和運動控制器（24）相連，運動控制器（24）與納米級垂直平移臺（19）相連，控制納米級垂直平移臺（19）運動。