[發(fā)明專利]顯影裝置和顯影方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010132989.3
• 申請日: 2010-03-12
• 公開（公告）號: CN101833250A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 有馬裕;吉田勇一;山本太郎;吉原孝介
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種顯影裝置，其特征在于，包括：

基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蝕劑并被曝光后的基板；

表面處理液霧化機(jī)構(gòu)，其將用于提高顯影液對所述基板的浸潤性的表面處理液霧化；

第一噴霧噴嘴，其使已霧化的所述表面處理液向所述基板噴霧；和

顯影液噴出噴嘴，其用于向已噴霧所述表面處理液的基板噴出顯影液進(jìn)行顯影。

2.一種顯影裝置，其特征在于，包括：

基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蝕劑并被曝光后的基板；

表面處理液霧化機(jī)構(gòu)，其使用于提高顯影液對所述基板的浸潤性的表面處理液霧化；

第一噴霧噴嘴，其將已霧化的所述表面處理液向所述基板噴霧；

顯影液霧化機(jī)構(gòu)，其用于將顯影液霧化；和

第二噴霧噴嘴，其用于對所述基板噴霧已霧化的顯影液進(jìn)行顯影。

3.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，包括：

清洗液噴出噴嘴，其用于對被供給所述顯影液的基板供給清洗液，清洗基板；和

控制部，其控制所述顯影液噴出噴嘴和所述清洗液噴出噴嘴的動作，

所述控制部輸出控制信號，使下述兩步驟重復(fù)進(jìn)行：從顯影液噴出噴嘴向基板供給顯影液的步驟，和接著從清洗液噴出噴嘴噴出清洗液的步驟。

4.如權(quán)利要求2所述的顯影裝置，其特征在于，包括：

清洗液噴出噴嘴，其用于對被供給所述顯影液的基板供給清洗液，清洗基板；和

控制部，其控制所述第二噴霧噴嘴和所述清洗液噴出噴嘴的動作，

所述控制部輸出控制信號，使下述兩步驟重復(fù)進(jìn)行：從第二噴霧噴嘴向基板供給顯影液的步驟，和接著從清洗液噴出噴嘴噴出清洗液的步驟。

5.如權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置，其特征在于：

所述基板表面對水的靜態(tài)接觸角為80°以上。

6.一種顯影方法，其特征在于，包括：

水平地保持表面涂布有抗蝕劑并被曝光的基板的工序；

使用于提高顯影液在所述基板的浸潤性的表面處理液霧化的工序；

從第一噴霧噴嘴向所述基板噴霧已霧化的表面處理液的工序；和

從顯影液噴出噴嘴向已噴霧所述表面處理液的基板噴出顯影液進(jìn)行顯影的工序。

7.一種顯影方法，其特征在于，包括

水平地保持表面涂布有抗蝕劑并被曝光后的基板的工序；

使用于提高顯影液在所述基板的浸潤性的表面處理液霧化的工序；

從第一噴霧噴嘴向所述基板噴霧已霧化的表面處理液的工序；

使顯影液霧化的工序；和

從第二噴霧噴嘴向所述基板噴霧已霧化的顯影液進(jìn)行顯影的工序。

8.如權(quán)利要求6所述的顯影方法，其特征在于：

重復(fù)進(jìn)行下述兩工序：

從顯影液噴出噴嘴向基板供給顯影液的工序，和

接著從清洗液噴出噴嘴向基板噴出清洗液清洗基板的工序。

9.如權(quán)利要求7所述的顯影方法，其特征在于：

重復(fù)進(jìn)行下述兩工序：

從第二噴霧噴嘴向基板供給顯影液的工序，和

接著從清洗液噴出噴嘴向基板噴出清洗液清洗基板的工序。