[發(fā)明專利]硅微納米結(jié)構(gòu)光伏太陽能電池無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010132772.2 | 申請日: | 2010-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN102201465A | 公開(公告)日: | 2011-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭奎慶 | 申請(專利權(quán))人: | 北京師范大學 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042;H01L31/0352;H01L31/18 |
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| 地址: | 100875*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 結(jié)構(gòu) 太陽能電池 | ||
1.硅微納米結(jié)構(gòu)陣列光伏太陽電池,它含有透明氧化物導電層、n型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層、p型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層、p型硅基底層、鋁金屬膜背電極層,其特征在于:所述太陽能轉(zhuǎn)換裝置含有依次相疊的下述各層,
(1)透明氧化物導電薄膜層位于n型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層之上,作為正面引出電極;
(2)n型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層位于p型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層之上,其作用是與p型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層形成三維p-n結(jié),產(chǎn)生光生伏特效應(yīng);
(3)p型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層位于P型硅基底層之上,其作用是與n型硅微納米結(jié)構(gòu)陣列層形成三維p-n結(jié),產(chǎn)生光生伏特效應(yīng),同時作為太陽電池的基區(qū);
(4)P型硅基底層,位于鋁金屬膜背電極之上,其作用是作為太陽能電池的基區(qū);
(5)鋁金屬膜背電極,其作用是作為背面引出電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅微納米結(jié)構(gòu)陣列光伏太陽電池,其主要特征在于:透明氧化物導電薄膜層(1)和P型硅基底層(4)之間含有硅微納米結(jié)構(gòu)三維p-n結(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅微納米結(jié)構(gòu)陣列光伏太陽電池,其主要特征在于:所述步驟(2)的p型硅微納米結(jié)構(gòu)可以是硅微米線,硅納米線,硅微米洞,硅納米洞等陣列結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅微納米結(jié)構(gòu)陣列光伏太陽電池,其主要特征在于:所述步驟(2)的n型硅微納米結(jié)構(gòu)層可以通過熱擴散技術(shù)在p型硅微納米結(jié)構(gòu)表面擴散形成n型硅層得到。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅微納米結(jié)構(gòu)陣列光伏太陽電池,其主要特征在于:所述步驟(2)的n型硅微納米結(jié)構(gòu)層可以通過化學氣相沉積等技術(shù)在p型硅微納米結(jié)構(gòu)表面沉積n型硅層得到。?
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
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