[發明專利]基板處理系統和基板處理方法

有效

• 申請號: 201010132170.7
• 申請日: 2010-03-09
• 公開（公告）號: CN101839644A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 森晃一;吉原賢一;向井正行
• 申請（專利權）人: 光洋熱系統株式會社
• 主分類號: F27B17/00
• 分類號: F27B17/00
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

技術領域

本發明涉及對液晶玻璃等基板實行焙燒(焼成)等熱處理的基板處理系統和能夠用于該系統的基板處理方法。

背景技術

當在彩色濾光器制造工程等中對液晶玻璃等基板進行熱處理時，為了有效地進行基板的搬入、處理和搬出，往往使用系統化了的結構。

在此用圖1簡單說明以往的基板處理系統中的基板輸送的控制內容。以往，從圖外的搬入部把未處理的工件取出的輸送機械手22，例如從第一處理室16的多層架166的最上層搬出處理完的工件，然后把未處理工件搬入到該空出來的層中。此后輸送機械手22把處理完的工件輸送到圖外的搬出部。接著，輸送機械手22再從搬入部取出未處理工件，這次從第一處理室16的多層架166的從上數的第二層搬出處理完的工件，然后把未處理工件搬入到該空出來的層中。反復進行同樣的動作，輸送機械手22首先對第一處理室16的多層架的從最上層到最下層的各層進行搬出處理完的工件的處理和搬入未處理工件的處理。在完成對第一處理室16的多層架166的從最上層到最下層的各層的搬出處理完的工件的處理和搬入未處理工件的處理后，與上述相同，對第二處理室18的多層架186的從最上層到最下層的各層進行搬出處理完的工件的處理和搬入未處理工件的處理。

在這種基板處理系統中，在對基板進行熱處理時，涂敷在基板上的具有升華性質的成分(例如含有光致抗蝕劑的具有升華性質的成分)氣化，因該升華物造成爐內的潔凈度降低。

因此，以往對利用通風道等把產生的升華物從爐內吸出的排氣系統想了各種辦法。例如有一種熱處理裝置為了降低升華氣體的濃度，對換氣用的空氣進行加熱后，導入到通過工件的循環空氣的上游部位，并且把一部分通過工件的空氣排出(例如參照日本專利公開公報特開平10-141868號)。

在包括上述的日本專利公開公報特開平10-141868號的熱處理裝置在內的以往的熱處理裝置中，如果要提高生產率(throughput)，就必須要盡可能縮短把基板搬入爐中的時間間隔，但是如果縮短搬入基板的時間間隔，則為了使升華物氣體的濃度低，就必須要增加排氣量。

而且，伴隨排氣量的增加，排熱量或供氣的加熱容量也要增加，其結果為了使爐內保持在設定溫度，就必須從加熱器向爐內提供更多的熱量。

因此，在包括上述的日本專利公開公報特開平10-141868號的熱處理裝置在內的以往的熱處理裝置中，電耗必然與生產率的提高成比例增加，因而要削減電耗就要犧牲生產率。

發明內容

本發明的目的是提供一種能夠不犧牲生產率就能實現削減電耗的基板處理系統和基板處理方法。

本發明的基板處理系統對基板進行熱處理。作為基板的例子可以舉出：液晶顯示器和等離子體顯示器用的玻璃基板、半導體裝置中使用的半導體晶片等。

該基板處理系統包括輸送部、多個處理室以及控制部。輸送部具有輸送基板的輸送機械手。多個處理室分別配置在輸送部的周圍。各處理室具有在搬入和搬出基板時能夠打開或關閉的門。

控制部至少控制輸送部和處理室。控制部控制輸送機械手和門的動作，使得輸送機械手不是連續對同一個處理室進行搬入或搬出，而是順次對多個處理室進行搬入或搬出。

在這種結構中，每個生產節拍時間(tact?time)進行不同的處理室門的打開或關閉動作，針對不同的處理室把基板按順序搬入或搬出。通過這樣變更把基板向多個處理室投入的順序，能夠抑制在單一的處理室內每單位時間的升華物氣體的生成量，降低爐內的升華物氣體的濃度。

其結果與以往相比，運轉時能夠縮減排氣量和供氣量，并能夠削減伴隨排氣的排熱。即，能夠不降低生產率就能進行節能運轉。此外也能夠使去除附著在爐內的升華物等的維護頻率降低。

按照本發明，能夠不犧牲生產率就能實現大幅度降低電耗。

附圖說明

圖1是表示以往的基板處理系統控制基板輸送的內容的圖。

圖2是表示本發明實施方式的基板處理系統概要的俯視圖。

圖3是表示第一處理室、第二處理室和輸送機械手概要的側剖視圖。

圖4是表示基板處理系統概要的框圖。

圖5是表示主控制部控制內容的圖。

圖6是表示本發明另外的實施方式的基板處理系統簡要結構的俯視圖。

圖7是簡要表示具有n個處理室的基板處理系統的效果的圖。

圖8是表示本發明另外的實施方式的處理室簡要結構的圖。

具體實施方式