[發(fā)明專利]一種用于鋰離子電池的氟化銅-硒納米復(fù)合負(fù)極材料及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010132074.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101794877A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李雯靜;周永寧;傅正文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01M4/136 | 分類號(hào): | H01M4/136;H01M4/1397 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 鋰離子電池 氟化 納米 復(fù)合 負(fù)極 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種鋰離子電池的復(fù)合負(fù)極材料,其特征在于為氟化銅-硒:CuF2-Se納米復(fù)合薄膜材料。
2.一種如權(quán)利要求1所述的鋰離子電池的復(fù)合負(fù)極材料的制備方法,其特征在于采用激光濺射技術(shù)制備,具體步驟為:將氟化銅粉末和單質(zhì)硒粉末混合,研磨后壓片制成激光濺射沉積所用的靶,靶和基片距離為3~5cm,濺射腔內(nèi)真空度為10-1~10-2Pa,沉積時(shí)間為0.5~2小時(shí)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于復(fù)旦大學(xué),未經(jīng)復(fù)旦大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010132074.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





