[發(fā)明專利]電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010131793.2 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102201429A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 季明華;林殷茵 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/24 | 分類號(hào): | H01L27/24;H01L21/84;G11C11/56 |
| 代理公司: | 北京市磐華律師事務(wù)所 11336 | 代理人: | 董巍;顧珊 |
| 地址: | 201203 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電阻 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 單元 | ||
1.一種電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,包括:
襯底;
在襯底上依次形成的掩埋氧化層和外延層;
在所述外延層上依次形成的柵極介電層和柵極;
在所述柵極兩側(cè)的所述外延層中形成的源區(qū)和漏區(qū);
其中所述柵極介電層的材料是鉿氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,還包括,分別在所述源區(qū)和漏區(qū)靠近柵極的一側(cè)形成的輕摻雜漏區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述外延層是p型或n型。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述源區(qū)或漏區(qū)是n+型或p+型。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述柵極介電層的厚度是
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中在形成所述存儲(chǔ)器單元時(shí)施加到所述柵極上的偏置電壓是外部電源電壓。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元“0”和“1”狀態(tài)分別由所述柵極介電層的低電阻狀態(tài)和高電阻狀態(tài)表示。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述存儲(chǔ)器單元在寫(xiě)操作中,所述柵極的偏置電壓是+0.6V,源/漏極電壓均是-0.6V。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述存儲(chǔ)器單元在讀操作中,所述柵極的偏置電壓是+0.5V,漏極電壓是+1V,源極電壓是0V。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中在形成柵極介電層之后,在柵極介電層中注入吸收氧原子的物質(zhì)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元,其中所述吸收氧原子的物質(zhì)選自Si、Ti和Hf中的一種或幾種。
12.一種電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器陣列,其特征在于所述陣列的單元由根據(jù)權(quán)利要求1-11之任一的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元形成,所述電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元的漏極和源極分別連接到存儲(chǔ)器陣列的不同位線,且柵極作為字線。
13.一種包含如權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元的電子設(shè)備,其中所述電子設(shè)備個(gè)人計(jì)算機(jī)、便攜式計(jì)算機(jī)、游戲機(jī)、蜂窩式電話、個(gè)人數(shù)字助理、攝像機(jī)和數(shù)碼相機(jī)。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)及操作方法
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器初始化設(shè)定方法
- 存儲(chǔ)裝置管理裝置及用于管理存儲(chǔ)裝置的方法
- 靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的合并內(nèi)建自我測(cè)試方法
- 計(jì)算裝置以及計(jì)算裝置的操作方法
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的測(cè)試方法、測(cè)試焊盤(pán)的設(shè)計(jì)方法、存儲(chǔ)器晶圓
- 用于存取動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的計(jì)算系統(tǒng)以及相關(guān)存取方法
- 電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元
- 包括磁性隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的半導(dǎo)體裝置
- 利用支撐條的動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元陣列及其制作方法





