[發(fā)明專利]金和鎳的選擇蝕刻液

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010130300.3
• 申請(qǐng)日: 2010-03-23
• 公開（公告）號(hào): CN101845630A
• 公開（公告）日: 2010-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高橋秀樹;永島和明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 關(guān)東化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23F1/16
• 分類號(hào): C23F1/16;C23F1/26
• 代理公司: 北京高文律師事務(wù)所 11359
• 代理人: 徐江華

1.一種對(duì)金和鎳共存的材料選擇性地蝕刻金和/或鎳的方法，包括對(duì)含有碘化物和碘、以及酸和/或有機(jī)溶劑的蝕刻液中的各成分的配合比進(jìn)行調(diào)整。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中包括對(duì)碘化物和碘的重量比、以及酸和/或有機(jī)溶劑的配合量進(jìn)行調(diào)整，使得不析出碘。

3.一種對(duì)金和鎳共存的材料使用的蝕刻液，含有碘化物和碘、以及酸和/或有機(jī)溶劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中有機(jī)溶劑為從由含氮五元環(huán)化合物、有機(jī)硫化合物、醇化合物、酮化合物和酰胺化合物構(gòu)成的組中選擇的1種或2種以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中有機(jī)溶劑為N-甲基-2-吡咯烷酮。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中有機(jī)溶劑為N，N-二甲基乙酰胺。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中有機(jī)溶劑的濃度為10體積％以上。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中碘化物相對(duì)碘的重量比率為3以上。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中酸為從由無機(jī)酸和在常溫為固體的有機(jī)酸構(gòu)成的組中選擇的1種或2種以上。

10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中酸為從由鹽酸、硫酸、硝酸、檸檬酸、丙二酸、酒石酸、蘋果酸和2，2’-硫代二乙酸構(gòu)成的組中選擇的1種或2種以上。

11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中酸為鹽酸。

12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中酸的濃度為5mM以上。

13.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中鎳和金的蝕刻速率比即鎳的蝕刻速率/金的蝕刻速率為Ni/Au＝0.10以上。

14.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻液，其中不含有酸。

15.根據(jù)權(quán)利要求3～14中任意一項(xiàng)所述的蝕刻液，其被用于通過調(diào)整蝕刻液中的各成分的配合比對(duì)金和鎳共存的材料選擇性地蝕刻金和/或鎳的方法中。