[發(fā)明專利]液晶顯示元件的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010129511.5 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101840096A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杉本悠;梅本清司;中園拓矢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1335;B32B37/12 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示 元件 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示元件的制造方法,其將在包括偏振片的光學(xué)膜上層疊了粘合劑層和臨時(shí)粘接于該粘合劑層的載體膜而成的長(zhǎng)條片狀物以維持所述載體膜的連續(xù)性的狀態(tài)按規(guī)定間隔切斷,并在輸送得到的光學(xué)膜片的同時(shí)利用張力剝離載體膜,并通過(guò)露出的粘合劑層連續(xù)地貼合于液晶面板,
所述液晶顯示元件的制造方法的特征在于,
所述切斷形成為實(shí)質(zhì)上達(dá)到載體膜的切入深度,且在載體膜的寬度方向的至少兩端部,切入深度小于該載體膜的厚度的一半。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
在剝離所述載體膜之際,使用邊緣狀部件使載體膜的輸送方向反轉(zhuǎn)為銳角,而從所述粘合劑層剝離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
在進(jìn)行所述切斷之際,利用切斷刃切斷支承于基座的所述載體膜,并且,使所述基座的在所述載體膜的寬度方向的兩端部處的表面高度比在所述載體膜的寬度方向的其他部分處的表面高度低。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
當(dāng)將切斷過(guò)程中切入所述載體膜的切入深度設(shè)為c,將載體膜的厚度設(shè)為d時(shí),切斷距離的6成以上滿足:3μm<c<(d/2)μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
所述載體膜的厚度為20μm以上且小于40μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
所述載體膜的抗斷強(qiáng)度為180MPa以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示元件的制造方法,其中,
在所述切斷過(guò)程中,粘合劑層沒(méi)有被完全切斷的部分為切斷距離的10%以下且沒(méi)有被切斷的部分的粘合劑層的厚度最大為3μm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日東電工株式會(huì)社,未經(jīng)日東電工株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010129511.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





