[發明專利]氫氣的供給裝置及供給方法、石英玻璃制造裝置

有效

• 申請號: 201010129396.1
• 申請日: 2010-02-16
• 公開（公告）號: CN101805115A
• 公開（公告）日: 2010-08-18
• 發明（設計）人: 井上大;長尾貴章;小出弘行
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: C03B20/00
• 分類號: C03B20/00;C03B37/018
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種供給裝置，其特征在于：其對石英玻璃制造裝置供給氫氣，此石英玻璃制 造裝置包括供給氫氣而產生氫氧焰的燃燒器，且所述供給裝置包括：

第一氫供給系統，其供給正氫和仲氫的含有比處于平衡狀態的氫氣；

第二氫供給系統，其供給正氫和仲氫的含有比偏離平衡狀態的氫氣；

閥門，其改變對所述燃燒器供給的氫氣的流量；

第一流量測量器，其基于熱容量測量來測量所述氫氣的流量；

流量控制部，其具有對用以使所述第一流量測量器的測量值接近于由外部提供的設 定值的所述閥門進行控制的控制部；

第二流量測量器，其根據熱容量以外的要素來測量所述氫氣的流量；及

設定值修正部，其將通過所述第一流量測量器的測量值與所述第二流量測量器的測 量值的比乘以所述設定值來修正而得的設定值設定在所述控制部中。

2.根據權利要求1所述的供給裝置，其特征在于：

所述流量控制部是具有沿著所述氫氣流而配置的溫度傳感器的熱式質量流量控制 器。

3.根據權利要求2所述的供給裝置，其特征在于：

所述第一流量測量器為熱式質量流量計。

4.根據權利要求1所述的供給裝置，其特征在于：

所述第二流量測量器為科里奧利式質量流量計。

5.一種石英玻璃制造裝置，其特征在于包括根據權利要求1至根據權利要求4中 任一項所述的供給裝置。

6.一種供給方法，其特征在于：其將正氫和仲氫的含有比處于平衡狀態的氫氣、 與正氫和仲氫的含有比偏離平衡狀態的氫氣，以與預先設定的設定值對應的供給量，供 給到包括供給氫氣而產生氫氧焰的燃燒器的石英玻璃制造裝置，且包括：

第一流量測量步驟，基于熱容量測量來測量所述氫氣的流量；

第二流量測量步驟，根據熱容量以外的要素來測量所述氫氣的流量；及

修正步驟，計算出通過所述第一流量測量步驟的測量值與所述第二流量測量步驟的 測量值的比乘以所述設定值來修正而得的設定值；及

控制步驟，控制使供給到所述燃燒器的氫氣的流量發生變化的閥門的開度，以使所 述第一流量測量步驟的測量值接近于經所述修正的設定值。

7.根據權利要求6所述的供給方法，其特征在于：

所述燃燒器用于采用VAD法(Vapor?phase?axial?deposition?method)的石英玻璃的 制造中。

8.根據權利要求6所述的供給方法，其特征在于：

所述燃燒器用于采用OVD法(Outside?vapor?deposition?method)的石英玻璃的制造 中。

9.根據權利要求6所述的供給方法，其特征在于：

硅化合物與所述氫氣一起供給到所述燃燒器中。

10.根據權利要求9所述的供給方法，其特征在于：

所述硅化合物為四氯化硅。

11.根據權利要求6所述的供給方法，其特征在于：

鍺化合物與所述氫氣一起供給到所述燃燒器中。

12.根據權利要求11所述的供給方法，其特征在于：

所述鍺化合物為四氯化鍺。