[發(fā)明專利]流體處理單元、流體處理組件以及流體處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010128811.1 | 申請日： | 2010-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN102190336A | 公開（公告）日： | 2011-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 周耀周 | 申請（專利權(quán)）人： | 周耀周 |
| 主分類號： | C02F1/00 | 分類號： | C02F1/00;C02F1/42;C02F1/28 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 史敬久 |
| 地址： | 加拿大*** | 國省代碼： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 流體 處理 單元 組件 以及 裝置 | ||
1.一種流體處理單元，該流體處理單元具有一腔室，在該腔室內(nèi)容納有至少一種細碎的流體處理介質(zhì)，該腔室具有供待處理的流體進入的入口和供處理后的流體流出的出口，其特征在于：所述入口設(shè)置在所述腔室的下部，所述出口設(shè)置在所述腔室的上部。
2.如權(quán)利要求1所述的流體處理單元，其特征在于：所述腔室由筒形的內(nèi)壁、圍繞該內(nèi)壁并與之間隔開的筒形的外壁、以及在所述內(nèi)壁和外壁之間的上壁和下壁構(gòu)成，其中所述上壁位于所述下壁的上方并與之間隔開。
3.如權(quán)利要求2所述的流體處理單元，其特征在于：所述入口設(shè)置于所述內(nèi)壁的下部和/或下壁，所述出口設(shè)置于所述外壁的上部和/或上壁。
4.如權(quán)利要求2所述的流體處理單元，其特征在于：所述入口設(shè)置于所述外壁的下部和/或下壁，所述出口設(shè)置于所述內(nèi)壁的上部和/或上壁。
5.如權(quán)利要求2-4之一所述的流體處理單元，其特征在于：所述腔室的內(nèi)壁界定至少一個供流體流動用的通道。
6.如權(quán)利要求5所述的流體處理單元，其特征在于：至少一個所述通道包括向所述流體處理單元的所述入口供應(yīng)流體的通道。
7.如權(quán)利要求5所述的流體處理單元，其特征在于：至少一個所述通道包括用于引導(dǎo)從所述流體處理單元的所述出口排出的流體的通道。
8.一種流體處理組件，所述流體處理組件具有用于待處理流體進入的組件入口和排出已處理流體的組件出口，所述流體處理組件包括多個上下疊置并且彼此可被拆地連接的流體處理單元，每個所述流體處理單元具有一腔室，在該腔室內(nèi)容納有至少一種細碎的流體處理介質(zhì)，所述腔室具有供待處理的流體進入的單元入口和供處理后的流體流出的單元出口，
所述流體處理組件還具有引入通道和排出通道，所述引入通道將流體從所述組件入口引導(dǎo)至各所述流體處理單元的單元入口，所述排出通道將流體從所述單元出口引導(dǎo)至所述組件出口，
其特征在于：各所述流體處理單元所述單元入口設(shè)置在所述腔室的下部，所述單元出口設(shè)置在所述腔室的上部。
9.如權(quán)利要求8所述的流體處理組件，其特征在于：各所述處理單元的所述腔室均由筒形的內(nèi)壁、圍繞該內(nèi)壁并與之間隔開的筒形的外壁、以及在所述內(nèi)壁和外壁之間的上壁和下壁構(gòu)成，其中所述上壁位于所述下壁的上方并與之間隔開。
10.如權(quán)利要求9所述的流體處理組件，其特征在于：
所述流體處理組件還包括一個外筒，該外筒環(huán)繞上下疊置的各處理單元的外壁；
上下疊置的多個流體處理單元的內(nèi)壁形成第一通道；
在所述外筒與各處理單元的外壁之間形成第二通道；
所述第一通道為引入通道，所述第二通道為排出通道。
11.如權(quán)利要求10所述的流體處理組件，其特征在于：
所述流體處理組件還包括一個內(nèi)筒，所述內(nèi)筒在上下疊置的各處理單元的內(nèi)壁所形成空間內(nèi)延伸，在該內(nèi)筒與各處理單元的內(nèi)壁之間形成所述第一通道。
12.如權(quán)利要求9-11之一所述的流體處理組件，其特征在于：所述單元入口設(shè)置于所述內(nèi)壁的下部和/或下壁，所述單元出口設(shè)置于所述外壁的上部和/或上壁。
13.如權(quán)利要求9所述的流體處理組件，其特征在于：
所述流體處理組件還包括一個外筒，該外筒環(huán)繞上下疊置的各處理單元的外壁；
上下疊置的多個流體處理單元的內(nèi)壁內(nèi)部形成第一通道
在所述外筒與各處理單元的外壁之間形成第二通道；
所述第一通道為排出通道，所述第二通道為引入通道。
14.如權(quán)利要求13所述的流體處理組件，其特征在于：
所述流體處理組件還包括一個內(nèi)筒，所述內(nèi)筒在上下疊置的各處理單元的內(nèi)壁所形成空間內(nèi)延伸，在該內(nèi)筒與各處理單元的內(nèi)壁之間形成所述第一通道。
15.如權(quán)利要求9、13或14所述的流體處理組件，其特征在于：所述單元入口設(shè)置于所述外壁的下部和/或下壁，所述單元出口設(shè)置于所述內(nèi)壁的上部和/或上壁。
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