[發明專利]基底介質配準和糾偏裝置、方法和系統有效
| 申請號: | 201010128193.0 | 申請日: | 2010-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN101823639A | 公開(公告)日: | 2010-09-08 |
| 發明(設計)人: | 約瑟夫·J·費拉拉;約瑟夫·M·費拉拉 | 申請(專利權)人: | 施樂公司 |
| 主分類號: | B65H7/06 | 分類號: | B65H7/06;B65H23/038;B65H26/00 |
| 代理公司: | 上海華暉信康知識產權代理事務所(普通合伙) 31244 | 代理人: | 樊英如 |
| 地址: | 美國康*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基底 介質 糾偏 裝置 方法 系統 | ||
技術領域
當前公開的技術面向一種配準(registering)和糾偏 (de-skewing)基底介質操作組件(比如印刷系統)中的基底介質 裝置、方法和系統。
背景技術
在印刷系統中,將基底介質按它在處理方向中傳送(transfer) 的方式精確而可靠的配準是需要的。穿過圖像轉移(transfer)區域 的基底介質的甚至是輕微的偏斜或錯位也可能導致圖像和/或色彩 配準錯誤。例如,在印刷系統使用鉗口組件或帶傳送基底介質時, 基底介質的輕微偏斜可能導致處理錯誤。并且,當基底介質在該印 刷系統的各部分之間傳送時,偏斜的量可能增加或累積。在模塊化 疊印(overprint)系統中,偏斜的累積會轉化為模塊退出和進入點 之間的基底介質定位誤差,特別是在交叉處理(cross-processing) 方向。這種誤差可能導致很大的推、拉或切變力的產生,這會被傳 遞到被傳送的基底介質上。介質和輕量基底介質通常不能支撐很大 的力,很大的力會使得這種介質起皺、翹曲或撕裂。
相應地,需要提供一種配準和糾偏基底介質的裝置、方法和系 統,其能克服現有技術中的缺點。
發明內容
根據此處描述的方面,公開一種用于在印刷系統中糾偏基底介 質的裝置。該裝置包括至少一個傳感器,用于測量被傳送的該基底 介質相對于處理方向的偏斜。該裝置還包括鉗口組件,用于在該處 理方向移動該基底介質。該鉗口組件包括用于嚙合該基底介質的主 動輥和空轉輥。該主動輥可旋轉地支撐在軸中心線上,其中該軸中 心線被基本上在其一端可樞轉地支撐以將該軸中心線與測量的基 底介質偏斜對準。該軸中心線圍繞垂直于該軸中心線的樞軸中心線 樞轉。
根據本文公開的其它方面,提供一種用于在印刷系統中糾偏基 底介質的裝置,其中該鉗口組件可以圍繞該樞轉中心線樞轉。而且, 該裝置可進一步包括致動構件,用于圍繞該樞軸中心線樞轉該軸中 心線到與該基底介質的一個邊緣平行的方位。另外,該致動元件基 本上被設置在該軸中心線相對于該樞轉支撐的相對端。進一步,該 致動構建可包括凸輪組件。再進一步,該至少一個傳感器包括設置 于該處理方向上在該鉗口組件之前的至少兩個傳感器。又進一步, 該至少兩個傳感器可在交叉處理方向間隔開,其中該兩個傳感器之 間的直線平行于缺省位置的軸中心線。該樞轉支撐可以包括球面軸 承元件。而且,該致動構件和該傳感器可耦合于控制系統以響應傳 感器測量值致動鉗口組件。該空轉輥可朝該主動輥偏置。
根據此處描述的進一步的方面,提供一種在印刷系統中糾偏基 底介質的方法。該方法包括測量在處理方向傳送的基底介質的偏斜 角度。然后,樞轉配準鉗口組件的旋轉中心線以匹配該偏斜角度。 該旋轉中心線圍繞橫切該處理方向的中心線配置的支撐樞轉。在該 基底介質與該配準鉗口組件嚙合后,樞轉該旋轉中心線到垂直于該 處理方向的位置。
根據此處描述的再進一步的方面,該方法還包括在樞轉該旋轉 中心線到垂直于該處理方向之前,將該基底介質從其它的鉗口組件 去嚙合。而且該其它的鉗口組件被置于該配準鉗口組件相對于該處 理方向的上游。另外,變換該旋轉中心線到交叉處理方向。進一步, 測量并調整該基底介質速度。又進一步,在與該鉗口組件嚙合之前, 從該基底介質的邊緣測量該基底介質的該偏斜角度。該旋轉中心線 的樞轉可由凸輪組件控制。而且,該凸輪組件可由馬達響應于該偏 斜角度測量值致動。該配準鉗口組件旋轉中心線可圍繞球面軸承組 件樞轉。該偏斜角度測量值可以由至少一個置于該處理方向上該鉗 口組件上游的傳感器執行。該球面軸承元件可被置于該鉗口組件的 與凸輪組件相對一端。
附圖說明
圖1是用于印刷系統的基底介質配準和糾偏裝置的部分側視示 意圖。
圖2是用于印刷系統的基底介質配準和糾偏裝置的部分俯視示 意圖。
圖3是圖2的裝置的部分俯視示意圖,其中鉗口組件被偏斜以基 本上順應操作的基底介質。
圖4是圖3的裝置的部分俯視示意圖,其中該鉗口組件和基底介 質被調整到缺省位置。
具體實施方式
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