[發明專利]反應器、化學氣相沉積反應器以及有機金屬化學氣相沉積反應器無效
| 申請號: | 201010128191.1 | 申請日: | 2010-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN102154624A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發明(設計)人: | 陳衛國;陳京玉 | 申請(專利權)人: | 財團法人交大思源基金會 |
| 主分類號: | C23C16/18 | 分類號: | C23C16/18;H01L21/205 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 任永武 |
| 地址: | 中國臺灣*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應器 化學 沉積 以及 有機 金屬 | ||
1.一種反應器,用以在至少一基板上形成一薄膜,其特征在于,包含:
一第一熱庫;以及
一第二熱庫,該第一熱庫與該第二熱庫面對面相對設置,以形成一反應區,兩個熱庫相對的內側面具有一夾角,且該第一熱庫的溫度與該第二熱庫的溫度可獨立控制,其中該第一熱庫用以放置該至少一基板,且該至少一基板位于該第一熱庫與該第二熱庫之間,并在該第一熱庫上的該至少一基板形成一薄膜。
2.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫之間的夾角可調整。
3.根據權利要求2所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫之間的最小間距為數微米至300毫米。
4.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫溫度控制是利用接觸式加熱方式或非接觸式加熱方式進行溫度控制。
5.根據權利要求4所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫溫度控制還包含利用冷卻方式進行溫度控制,其中該冷卻方式是利用液冷或氣冷方式。
6.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫溫度控制是利用熱阻絲電熱加熱、高頻感應加熱、紫外光燈管加熱、可見光燈管加熱或遠紅外線燈管加熱。
7.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該基板是選自于玻璃基板、氮化鎵基板、氧化鋁基板、碳化硅基板、砷化鎵基板、磷化銦基板以及硅基板所構成的群組。
8.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該些薄膜是由周期表中的IA、IIA、IIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIII、IB、IIB、IIIA、IVA、VA、VIA、VIIA及VIIIA族元素所組成的單一元素薄膜或二元以上的薄膜。
9.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該些薄膜亦可摻雜P型、N型或同價電性元素。
10.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,至少一該基板可被驅動旋轉。
11.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,還包含多個第一熱庫與多個第二熱庫,其中這些第一熱庫與這些第二熱庫均各自獨立控制溫度。
12.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,還包含一進氣結構,以將這些反應物輸入該反應器。
13.根據權利要求12所述的反應器,其特征在于,這些反應物是通過該第一熱庫與該第二熱庫之間的間距進入該反應區。
14.根據權利要求12所述的反應器,其特征在于,該第一熱庫與該第二熱庫的至少其中之一,還包含至少一氣體通道形成于其中,以使至少部份或全部的這些反應物通過該至少一氣體通道進入該反應區。
15.根據權利要求14所述的反應器,其特征在于,該至少一氣體通道是多個氣體通道,以使該至少部份的這些反應物彼此分開地進入該反應區。
16.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,還包含保護板結構放置于該第一熱庫與該第二熱庫,以避免這些反應物與該第一熱庫以及該第二熱庫接觸。
17.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該第二熱庫的溫度高于該第一熱庫的溫度。
18.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該反應器是一化學氣相沉積反應器。
19.根據權利要求1所述的反應器,其特征在于,該反應器是一有機金屬化學氣相沉積反應器。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





