[發(fā)明專利]一種無掩模光刻技術(shù)的曝光方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010127390.0
• 申請(qǐng)日: 2010-03-16
• 公開（公告）號(hào): CN101799635A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龐微
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 芯碩半導(dǎo)體(中國(guó))有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 安徽合肥華信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種無掩模光刻技術(shù)的曝光方法，照明光源發(fā)出的光入射至空間光調(diào)制器，所述空間光調(diào)制器調(diào)制入射光產(chǎn)生數(shù)字掩模，其特征在于：空間光調(diào)制器調(diào)制產(chǎn)生的數(shù)字掩模以一定縮放比例，投影在放置于可移動(dòng)的曝光臺(tái)的曝光基片上，控制曝光臺(tái)沿二維坐標(biāo)X方向左右及Y方向上下移動(dòng)，則空間光調(diào)制器的數(shù)字掩模在曝光基板上形成多幅小曝光圖像，所述多幅小曝光圖像拼接構(gòu)成目標(biāo)圖形，相鄰的小曝光圖像在X方向和Y方向上有交疊區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無掩模光刻技術(shù)的曝光方法，其特征在于：控制空間光調(diào)制器，使空間光調(diào)制器在所述多幅小曝光圖像在彼此之間的交疊區(qū)域上的曝光能量按照先等比例遞增再相同比例遞減變化，或者按照先等比例遞減再相同比例遞增變化，使得交疊區(qū)域上的曝光能量等于非交疊區(qū)域的曝光能量，完成光目標(biāo)圖像的曝光。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無掩模光刻技術(shù)的曝光方法，其特征在于：在X方向左邊交疊區(qū)域或者Y方向上方交疊區(qū)域，交疊區(qū)域的曝光能量按照需要曝光能量的一定比例1/n，2/n，……，(n-1)/n遞增變化(n為大于1的整數(shù))，X方向右邊交疊區(qū)域或者Y方向下方交疊區(qū)域，交疊區(qū)域的曝光能量按照需要曝光能量的一定比例(n-1)/n，……，2/n，1/n遞減變化(n為大于1的整數(shù))。