[發明專利]超聲波樣品臺以及用其進行粉體磁控濺射鍍膜的方法有效
| 申請號: | 201010125037.9 | 申請日: | 2010-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN101798677A | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發明(設計)人: | 沈志剛;俞曉正;蔡楚江;麻樹林;邢玉山 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京永創新實專利事務所 11121 | 代理人: | 李有浩 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超聲波 樣品 以及 進行 磁控濺射 鍍膜 方法 | ||
1.一種采用超聲波樣品臺進行粉體磁控濺射鍍膜的方法,其特征在于有下列步 驟:
(A)打開真空室,把裝有粉體材料的樣品容器安裝在共振器的上方;
(B)關閉真空室,打開真空抽氣裝置中的機械泵抽真空至0.7Pa~0.9Pa;
(C)打開真空抽氣裝置中的分子泵抽真空至2.0×10-3Pa~5.0×10-3Pa;
(D)打開流量計,向真空室內充氬氣至0.3Pa~0.4Pa;
(E)打開超聲波發生器,調節超聲波頻率20kHz~500kHz和功率50W~ 2000W;
(F)打開靶電源,調節功率至500W~1500W,開始濺射鍍膜;
(G)經100min~600min后關閉靶電源,停止濺射;
(H)按順序關閉流量計、分子泵和機械泵,再打開放氣閥緩慢向真空室內放氣, 當真空室內壓力與大氣壓力平衡后,打開真空室,取出樣品容器,鍍膜結束;
所述超聲波樣品臺包括有樣品容器、共振器和超聲波發生器,樣品容器置于共振 器上方,共振器通過電纜與超聲波發生器相連;樣品容器上設有空腔,該空腔用于放 置待加工物料;樣品容器的底部的中心部位設有螺紋孔,在共振器的上方安裝一螺紋 柱,該螺紋柱安裝在樣品容器底部的螺紋孔內,該螺紋孔與螺紋柱的螺紋配合實現將 樣品容器安裝在共振器上方;樣品容器采用金屬材料加工,其壁厚為0.2mm~ 1.0mm;超聲波發生器輸出的超聲波頻率為20kHz~500kHz和輸出功率為50W~ 2000W。
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