[發(fā)明專利]一種基于光功率計(jì)技術(shù)的激光劃痕界面結(jié)合狀況檢測(cè)方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010124945.6
• 申請(qǐng)日: 2010-03-16
• 公開（公告）號(hào): CN101876627A
• 公開（公告）日: 2010-11-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮愛新;孫淮陽;曹宇鵬;徐傳超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N19/04
• 分類號(hào): G01N19/04
• 代理公司: 南京知識(shí)律師事務(wù)所 32207
• 代理人: 汪旭東

1.一種基于光功率計(jì)技術(shù)的激光劃痕界面結(jié)合狀況檢測(cè)方法，其特征在于：通過采用單脈沖激光對(duì)涂覆在工件上的涂層進(jìn)行單點(diǎn)單次加載，隨著激光能量的增加形成了深度逐漸增加的點(diǎn)狀離散劃痕，加載的同時(shí)采用光功率計(jì)檢測(cè)加載點(diǎn)處反射光強(qiáng)度；由于加載的激光能量和功率計(jì)采集的反射光強(qiáng)度數(shù)值在薄膜未破壞時(shí)以同等斜率線性遞增，即激光強(qiáng)度P_I＝Kt，反射光強(qiáng)度P_RI＝Kt-A，其中K、A＞0均為常數(shù)；隨著膜的破壞，表面變得粗糙，反射率減小，此時(shí)反射光強(qiáng)度為P_R2＝K₁t-A，K₁小于K，并隨薄膜的破壞不斷減小，當(dāng)界面破壞時(shí)，反射率及檢測(cè)到的反射光強(qiáng)度突然下降，即反射光強(qiáng)度的斜率曲線(K₁-t)曲線發(fā)生階躍，則曲線拐點(diǎn)為膜基界面破壞的判據(jù)，是界面破壞的臨界點(diǎn)；設(shè)劃痕時(shí)間設(shè)為t，光功率計(jì)的采樣頻率設(shè)為f，，總采集樣本數(shù)為S＝t/(1/f)＝tf，劃至拐點(diǎn)時(shí)間為t_i，則拐點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的樣點(diǎn)數(shù)設(shè)為S_i＝S×(t_i/t)＝t_if，加載的激光能量最大值為P，則用來表征膜基界面的結(jié)合強(qiáng)度的激光功率為P_i＝P×(S_i/S)＝P(t_i/t)。

2.權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法，其特征在于：激光功率調(diào)節(jié)范圍在0～200W，涂層厚度為50μm，光斑直徑為1mm，劃痕速度選擇在0.5～1mm之間。