[發(fā)明專利]一種薄膜式熱流密度傳感器及其制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010124574.1
• 申請(qǐng)日: 2010-03-16
• 公開（公告）號(hào): CN101819074A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郝慶瑞
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)飛機(jī)強(qiáng)度研究所
• 主分類號(hào): G01K17/00
• 分類號(hào): G01K17/00;G01K17/08;G01K7/22
• 代理公司: 中國(guó)航空專利中心 11008
• 代理人: 杜永保

1.一種薄膜式熱流密度傳感器制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：提供一由金屬材料制成的水冷板基底；

步驟2：在所述基底上通過真空離子濺射的方式生成交錯(cuò)排列的熱電極 A和熱電極B，組成熱電堆；

步驟3：在熱電堆的兩端分別設(shè)置引出線；

步驟4：在設(shè)置有熱電堆的基底表面覆蓋兩層厚度不同的第一熱阻材料 和第二熱阻材料，且分別設(shè)置在熱電堆高溫端和熱電堆低溫端；

其中，步驟2所述的在基底上通過真空離子濺射的方式生成熱電極A 和熱電極B的工藝，進(jìn)一步細(xì)分為如下步驟：

s1：提供并安裝靶材和A組掩模版，其中，所述靶材為標(biāo)準(zhǔn)熱電極材 料；

s2：清洗基底，并安裝基底；

s3：抽真空并烘烤，當(dāng)真空抽到10^-3Pa時(shí)，加熱烘烤到150℃～250 ℃，并保持氣壓不高于3.0×10^-3Pa；

s4：輝光清洗，充惰性氣體至0.5～2.0×10^-3Pa，打開離子清洗電源， 電壓從1000V～2000V范圍逐步調(diào)整，使輝光清洗由弱逐漸增強(qiáng)，真空室內(nèi) 出現(xiàn)清晰的輝光，整個(gè)輝光清洗過程保持8～12分鐘；

s5：在基底上濺射鍍膜，啟動(dòng)濺射電源和偏壓電源，減少惰性氣體供 給量，使真空度達(dá)到8×10^-2Pa，偏壓電源電壓從零V起逐步調(diào)高至60～ 100V，濺射電源電壓從零V起逐步調(diào)高至500～700V，電流設(shè)定在3～5A， 保持濺射鍍膜過程10～20分鐘，使鍍膜厚度達(dá)到8～12微米，形成熱電極 A；

s6：冷卻10～20分鐘后，充惰性氣體降低真空度至1～3×10^-1Pa，停留 5分鐘后充入大氣；

s7：取出待測(cè)構(gòu)件，將A組掩模版更換為B組掩模版，并重復(fù)步驟s2 至步驟s6，形成熱電極B，且二次所鍍薄膜之間存在作為測(cè)溫點(diǎn)的交接點(diǎn)。