[發(fā)明專利]成膜裝置和成膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010122653.9
• 申請(qǐng)日: 2010-03-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101826446A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-09-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 加藤壽;本間學(xué);菊地宏之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;C23C16/455
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種成膜裝置，其在容器內(nèi)將互相反應(yīng)的至少2種反應(yīng) 氣體按順序供給到基板的表面上且執(zhí)行該供給循環(huán)，從而層疊 反應(yīng)生成物的層而形成膜，其中，

該成膜裝置包括：

基座，其被設(shè)置在上述容器內(nèi)；

多個(gè)反應(yīng)氣體供給部件，其被設(shè)置成與上述基座的上表面 相對(duì)且沿該基座的周向彼此分開(kāi)，用于將多種反應(yīng)氣體分別供 給到基板的表面上；

分離區(qū)域，其為了劃分自上述多個(gè)反應(yīng)氣體供給部件分別 供給反應(yīng)氣體的多個(gè)處理區(qū)域彼此的氣氛而在上述基座的周向 上設(shè)在上述多個(gè)處理區(qū)域之間，且具有用于供給分離氣體的分 離氣體供給部件；

旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于使上述反應(yīng)氣體供給部件、上述分離氣 體供給部件以及上述基座繞鉛垂軸線相對(duì)旋轉(zhuǎn)；

基板載置區(qū)域，其沿上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)方向地設(shè)在上述 基座上，以能夠利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)使上述基板按順序位于 上述多個(gè)處理區(qū)域以及上述分離區(qū)域中；

自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于使載置在上述基板載置區(qū)域的上述基板 繞鉛垂軸線自轉(zhuǎn)規(guī)定角度；

以及排氣部件，其用于對(duì)上述容器內(nèi)進(jìn)行排氣，

上述分離區(qū)域具有第1頂面，該第1頂面位于上述分離氣體 供給部件的上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)方向兩側(cè)，且該第1頂面與上 述基座之間形成用于供分離氣體自該分離區(qū)域流到處理區(qū)域側(cè) 的狹窄的空間，

在該第1頂面的上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)方向兩側(cè)具有高于該第1頂面 的第2頂面，該第2頂面的下方的空間即配置有上述反應(yīng)氣體供給部件 的空間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有控制部，該控制部在成膜的過(guò)程中停止由 上述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的相對(duì)旋轉(zhuǎn)、且對(duì)上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)輸出控制信 號(hào)，使得上述基板利用上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)而自轉(zhuǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中，

利用上述基座的旋轉(zhuǎn)使基板按順序通過(guò)上述多個(gè)處理區(qū)域 和分離區(qū)域；

上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)在上述基座的下方側(cè)，自下方側(cè)頂起該基 座上的基板而使該基板旋轉(zhuǎn)并改變基板的朝向。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其中，

上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)還具有在上述基座與外部的輸送機(jī)構(gòu)之間交 接基板的作用。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中，

利用上述基座的旋轉(zhuǎn)使基板按順序通過(guò)上述多個(gè)處理區(qū)域 以及分離區(qū)域；

上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)在上述基座的上方側(cè)，自側(cè)方側(cè)夾持該基 座上的基板而使該基板旋轉(zhuǎn)并改變基板的朝向。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述基座的平面形狀俯視為圓形；

上述多個(gè)反應(yīng)氣體供給部件是分別沿上述基座的徑向延伸 的用于供給反應(yīng)氣體的部件。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置具有中心區(qū)域，該中心區(qū)域位于上述容器內(nèi)的 中心部以分離上述多個(gè)處理區(qū)域的氣氛，且該中心區(qū)域在上述 基座的基板載置面?zhèn)刃纬捎杏糜趪姵龇蛛x氣體的噴出孔；

利用上述排氣部件將上述反應(yīng)氣體與擴(kuò)散到上述分離區(qū)域 兩側(cè)的分離氣體以及自上述中心區(qū)域噴出的分離氣體一起排 出。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述基座包括在底部具有通孔的凹部、和能脫離地收容在 該凹部中的板；

上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)具有升降旋轉(zhuǎn)部，該升降旋轉(zhuǎn)部通過(guò)上述通 孔而抬起上述板并使該板旋轉(zhuǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的成膜裝置，其中，

在上述板上形成有上述基板載置區(qū)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括：多個(gè)臂，其在前端具有能支承上述基 板的背面周緣部的爪部；驅(qū)動(dòng)部，其能使該多個(gè)臂沿上下方向、 沿彼此靠近的方向以及呈圓弧狀移動(dòng)；

上述基座還在上述基板載置區(qū)域的周緣部具有凹部，該凹 部容許上述爪部進(jìn)入而到達(dá)上述基板的背面周緣部。