[發(fā)明專利]碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料及結(jié)構(gòu)制作方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010121403.3
• 申請(qǐng)日: 2010-03-10
• 公開（公告）號(hào): CN101777473A
• 公開（公告）日: 2010-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙莉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 彩虹集團(tuán)公司
• 主分類號(hào): H01J29/02
• 分類號(hào): H01J29/02;H01J9/00;H01J9/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 汪人和

1.一種碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料，其特征在于：該 致密材料薄層漿料由下述重量百分比的原料配制而成：

溶劑????????6％～15％；

樹脂????????18％～25％；

光敏單體????1％～5％；

光引發(fā)劑????5％～15％；

無(wú)機(jī)原料????40％～70％；

所述樹脂為由甲基丙烯酸甲酯、乙酰乙酸甲酯、十二硫醇及偶氮二異 丁腈AIBN共聚制成的樹脂，其酸值為70～80；

所述無(wú)機(jī)原料為氧化鉛PbO、二氧化硅SiO₂、銀納米顆粒的混合物； 其中，混合物的重量比為：氧化鉛PbO∶二氧化硅SiO₂∶銀納米顆粒＝3∶4∶3。

2.如權(quán)利要求1所述的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料，其 特征在于：所述溶劑為2，2，4-三甲基-1.3戊二醇單異丁酸酯。

3.如權(quán)利要求1所述的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料，其 特征在于：所述樹脂共聚步驟為：

1)制備活性部分：將重量百分比為98％的2，2，4-三甲基-1.3戊二醇單 異丁酸酯與2％偶氮二異丁腈兩者混合，超聲20min；備用；

2)制備膠體：將重量百分比為82％甲基丙烯酸甲酯、15％乙酰乙酸甲 酯、1％十二硫醇及2％偶氮二異丁腈混合制成膠體；

3)將膠體裝入三口燒瓶，并將活性部分在90℃下，以真空泵抽入三 口燒瓶中，與膠體混合均勻，即得丙烯酸樹脂。

4.如權(quán)利要求1所述的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料，其 特征在于：所述光敏單體為丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。

5.如權(quán)利要求1所述的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件致密材料薄層漿料，其 特征在于：所述光引發(fā)劑為1173、184、907、369、1490或1700。

6.一種碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于：所述制 作方法步驟如下：

1)首先制備致密材料薄層(36)漿料，將重量百分比的薄層漿料置 于研缽或脫泡攪拌機(jī)中進(jìn)行機(jī)械混合，其粘度控制在10000到30000cps之 間；

2)、在陰極玻璃基板(31)上印刷整面感光性導(dǎo)電銀漿，并于100℃， 大氣壓下，烘干20～30min，然后利用光刻法得到柵極電極層(32)，曝光 能量為500mJ，顯影液采用0.4％碳酸鈉溶液；

3)、將柵極電極層(32)于570℃，大氣壓下，燒結(jié)20min；

4)、在柵極電極層(32)上印刷絕緣介質(zhì)層(33)，并于130℃，大氣 壓下，烘干10～15min；

5)、將絕緣介質(zhì)層(33)于600℃，大氣壓下，燒結(jié)20min；

6)、在絕緣介質(zhì)層(33)上套準(zhǔn)印刷導(dǎo)電銀漿陰極電極層(34)圖形， 并于100℃，大氣壓下，烘干20～30min；再利用光刻法得到陰極圖形層(34)， 曝光能量為500mJ，顯影液為0.4％碳酸鈉溶液；

7)、利用陰極電極層(34)的圖形做掩膜對(duì)絕緣介質(zhì)層(33)進(jìn)行濕 法刻蝕，以得到孔洞結(jié)構(gòu)；藥液為0.3％稀硝酸溶液，于40℃，刻蝕 150s～300s；

8)、將陰極電極層(34)于550℃，大氣壓下，燒結(jié)20min；

9)、在陰極電極層(34)上整面印刷環(huán)氧樹脂涂層(35)，并于130 ℃，大氣壓下，烘干20～30min；

10)、在環(huán)氧樹脂涂層(35)上印刷致密材料薄層(36)，并于100℃， 大氣壓下，烘干10min；

11)、在致密材料薄層(36)上印刷碳納米管層(37)，并于100℃， 大氣壓下，烘干10min；

12)、利用陰極電極菲林做掩膜，對(duì)致密材料薄層(36)和碳納米管 層(37)進(jìn)行一次性曝光顯影，曝光能量為100mJ，顯影液為0.4％碳酸鈉 溶液；

13)、將致密材料薄層(36)和碳納米管層(37)于350℃，大氣壓下， 一次性燒結(jié)15min，然后表面超聲處理，即得碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件；

致密材料薄層漿料由下述重量百分比的原料配制而成：

溶劑6％～15％；樹脂18％～25％；光敏單體1％～5％；光引發(fā)劑5％～15％； 無(wú)機(jī)原料40％～70％；

所述樹脂為由甲基丙烯酸甲酯、乙酰乙酸甲酯、十二硫醇及偶氮二異 丁腈AIBN共聚制成的樹脂，其酸值為70～80；

所述無(wú)機(jī)原料為氧化鉛PbO、二氧化硅SiO₂、銀納米顆粒的混合物； 其中，混合物的重量比為：氧化鉛PbO∶二氧化硅SiO₂∶銀納米顆粒＝3∶4∶3。

7.如權(quán)利要求6所述的碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件結(jié)構(gòu)的制作方法，其 特征在于：所述步驟8)后的制備方法或是：

9)、在陰極電極層(34)上整面印刷負(fù)性光刻膠，并于100℃，大氣 壓下，烘干20～30min；

10)、利用填隙菲林進(jìn)行光刻，以得到填充步驟6)所述的孔洞結(jié)構(gòu)的 填充膠條(38)，曝光能量為300mJ，顯影液為0.4％的碳酸鈉溶液；

11)、利用紫外曝光設(shè)備對(duì)顯影后的填充膠條(38)進(jìn)行強(qiáng)曝光，曝 光能量為800mJ，時(shí)長(zhǎng)為5～10min；

12)、在陰極電極層(34)上印刷致密材料薄層(36)，并于100℃， 大氣壓下，烘干10min；

13)、在致密材料薄層(36)上印刷碳納米管層(37)，并于100℃， 大氣壓下，烘干10min；

14)、利用陰極電極菲林做掩膜，對(duì)致密材料薄層(36)和碳納米管 層(37)進(jìn)行一次性曝光顯影，曝光能量為100mJ，顯影液為0.4％碳酸鈉 溶液；

15)、將致密材料薄層(36)和碳納米管層(37)在350℃，大氣壓下， 一次性燒結(jié)15min，然后表面超聲處理，最終得到碳納米管場(chǎng)致發(fā)射器件。