[發(fā)明專利]一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010121391.4
• 申請日: 2010-03-10
• 公開（公告）號: CN101777577A
• 公開（公告）日: 2010-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李俊
• 申請（專利權(quán)）人: 彩虹集團(tuán)公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 汪人和

1.一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板，包括上、下基板玻璃及覆蓋在上、 下基板玻璃上的ITO，其特征在于：在下基板玻璃(100)上覆蓋有下基 板ITO(101)，在該下基板ITO(101)上濺射有金屬層；在上基板玻 璃(200)上覆蓋有上基板ITO(201)，且上、下基板玻璃相互壓合；在 上、下基板玻璃之間設(shè)置有間隔下基板ITO(101)、金屬層及上基板ITO (201)的絕緣柱(104)，且在相鄰絕緣柱(104)之間分布有有機(jī)層；

所述金屬層為Al(102)及Ni(103)；

所述有機(jī)層為依次至下而上層間分布的空穴注入層(105)、空穴傳輸 層(106)、RGB不同色素的發(fā)光層(107)、電子傳輸層(108)、電子注 入層(109)和ITO導(dǎo)電層(110)；

所述絕緣柱(104)為矩形陣列，且其分布于上、下基板ITO條形間 隙之間；

所述絕緣柱(104)的截面上端為正梯形結(jié)構(gòu)，上基板ITO(201) 及有機(jī)層分布在該正梯形結(jié)構(gòu)間隔之間；所述絕緣柱(104)的截面下端 為柱形，下基板ITO(101)及金屬層分布在該柱形結(jié)構(gòu)之間。

2.一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法，其特征在于：該制備方 法包括如下步驟：

1)取一塊ITO玻璃基板(1)進(jìn)行清洗、干燥，然后將其作為下基 板，在下基板ITO(101)上濺射兩層金屬層Al(102)與Ni(103)，再 進(jìn)行激光退火，退火溫度為850℃，退火時(shí)間為38s；

2)在濺射有Al/Ni的玻璃基板上涂布光刻膠，在140～150℃熱板進(jìn) 行預(yù)烘烤3～3.5min，曝光50s；并用0.5％的NaCO₃進(jìn)行顯影，洗凈，干 燥，在150～160℃烘烤4～5min；再對該玻璃基板進(jìn)行下基板ITO/Al/Ni 刻蝕，用HCl∶HNO₃∶H₂O₂＝5∶5∶2的刻蝕液刻出陽極圖形；從而完 成下基板陽極圖形的制作；

3)取另一塊ITO玻璃基板(1)進(jìn)行清洗、干燥，然后將其作為上 基板，在上基板ITO(201)上涂布光刻膠，在140～150℃熱板進(jìn)行預(yù)烘 烤3～3.5min，曝光50s；并用0.5％的NaCO₃進(jìn)行顯影，洗凈，干燥，在 150～160℃烘烤4～5min；再對該玻璃基板進(jìn)行上基板ITO(201)的刻蝕， 用HCl∶HNO₃∶H₂O₂＝5∶5∶2的刻蝕液刻出金屬陰極圖形，將光刻膠 去掉，從而完成上基板陰極圖形的制作；

4)在步驟2)得到的刻蝕ITO/Al/Ni金屬圖案的下基板玻璃上旋涂 正性光刻膠130～140nm，在150～170℃進(jìn)行初次烘烤4～5min，曝光60～ 70s，用0.5％的NaCO₃進(jìn)行顯影，清洗，吹干；在160～180℃再二次烘烤 5～6min，固化，得到絕緣柱(104)；

5)通過對位系統(tǒng)移動遮擋掩膜或下基板玻璃(100)分別在蒸鍍設(shè)備 蒸鍍紅R、綠G、藍(lán)B各有機(jī)像素層，依次蒸鍍空穴注入層(105)20nm、 空穴傳輸層(106)20nm、RGB不同色素的發(fā)光層(107)30nm、電子傳 輸層(108)10nm、參雜有Cs₂CO₃的電子注入層(109)40nm和ITO導(dǎo) 電層(110)20nm；

6)在下基板玻璃(100)顯示區(qū)(4)外沿涂覆紫外固化膠，在真空 下與上基板玻璃(200)進(jìn)行對位貼合；

7)將步驟6)對位貼合后的顯示面板于真空鍵合設(shè)備中，50℃～70℃， 真空度0.1Pa，壓力20Kg，壓合30min；并通過紫外燈照射固化，至此， 即得彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種彩色有機(jī)發(fā)光顯示面板的制備方法， 其特征在于：所述濺射兩層金屬層為先濺射一層Al(102)，厚度為0.5～ 1nm；再濺射一層Ni(103)，厚度為1～2nm。