[發明專利]光刻機的雙工件臺系統無效
| 申請號： | 201010118812.8 | 申請日： | 2010-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN101770181A | 公開（公告）日： | 2010-07-07 |
| 發明（設計）人： | 鄭樂平;顧鮮紅 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 20120*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 雙工 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻機的雙工件臺系統，包括：
沿平行于X向設置的導向表面；
第一硅片臺和第二硅片臺，其沿平行于X向和Y向從第一位置移動到第二位置；
置換系統，設置成沿該導向表面移動，其特征在于：該置換系統包括：
沿平行于Y向設置的第一置換單元和第二置換單元，第一硅片臺和第二硅片臺各自設置于第一置換單元和第二置換單元上并在各自的第一置換單元和第二置換單元上沿平行于Y向移動，第一置換單元和第二置換單元相互對接，使第一硅片臺和第二硅片臺交換位置。
2.如權利要求1所述的光刻機的雙工件臺系統，其特征在于：該光刻機的雙工件臺系統具有預處理工位區域和曝光工位區域。
3.如權利要求2所述的光刻機的雙工件臺系統，其特征在于：該第一置換單元和第二置換單元分別為在預處理工位區域和曝光工位區域上一端藕接至各自的導向表面并沿對應的導向表面移動的第一Y向導軌和第二Y向導軌，該相鄰工位區域的第一Y向導軌和第二Y向導軌的另一端以藕接方式對接。
4.如權利要求3所述的光刻機的雙工件臺系統，其特征在于：該第一硅片臺和第二硅片臺各自藕接至相鄰工位區域的第一Y向導軌和第二Y向導軌的相對兩側邊，相鄰工位區域的第一Y向導軌和第二Y向導軌對接后，第一硅片臺和第二硅片臺沿對接后的第一Y向導軌和第二Y向導軌的相對兩側各自移動至對方的工位區域。
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