[發明專利]磁控濺射法制備銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層的方法有效
| 申請號: | 201010118300.1 | 申請日: | 2010-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN101768729A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發明(設計)人: | 黃富強;王耀明;朱小龍;李愛民;張雷 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/54;H01L31/18 |
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| 地址: | 200050上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁控濺射 法制 備銅銦鎵硒 薄膜 太陽電池 光吸收 方法 | ||
技術領域
本發明涉及銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽電池光吸收層的制備方法,更確 切地說采用磁控濺射法制備CIGS前驅薄膜,然后進行熱處理制成太陽電池光 吸收層,屬于光伏材料新能源技術領域。
背景技術
銅銦鎵硒(Cu(In,Ga)Se2,簡稱CIGS)薄膜太陽電池是新一代最有前途 的太陽電池,它具有成本低、效率高、壽命長、弱光性能好、抗輻射能力 強、可柔性且環境友好等多方面的優點。自20世紀90年代以來,CIGS在所 有薄膜太陽電池中,就一直是實驗室轉換效率最高的薄膜太陽電池。2008年 4月,美國可再生能源實驗室(NREL)又將其實驗室最高轉換效率刷新為 19.9%(Ingrid?Repins,Miguel?A.Contreras,Brian?Egaas,Clay?DeHart,John Scharf,Craig?L.Perkins,Bobby?To?and?Rommel?Noufi,Progress?in?Photovoltaics: Research?and?Applications,16(3),235-239,2008),與多晶硅的實驗室最高轉 換效率20.3%已非常接近,發展前景巨大。
CIGS光吸收層的制備是CIGS薄膜太陽電池的核心工藝。目前產業界制 備CIGS光吸收層的主要工藝包括蒸發法、磁控濺射Cu-In-Ga預制膜后硒化 法和蒸發-濺射雜化法等。但這些方法都不可避免地在薄膜的制備過程中會出 現易揮發的中間相(如In2Se、In4Se3、InSe和In6Se7等),使薄膜最終的實際 成分與名義成分差別很大;而且由于易揮發中間相的生成和揮發速度與溫度、 氣壓、揮發性物質的分壓和表面氣流狀態等因素都密切相關,大面積溫場中 不可控因素(分壓、氣流狀態等)的漲落,會導致大面積薄膜成分出現不可 控的變化,從而導致薄膜的均勻性和重復性都難以控制,電池的生產良率無 法得到保證,嚴重制約了產業化生產的大規模擴張。
發明內容
本發明的目的在于提供CIGS薄膜太陽電池光吸收層的一種制備方法,采 用所述的方法可以提高大面積CIGS薄膜制備工藝的穩定性和成分的均勻性, 提高CIGS薄膜太陽電池的光電轉換效率和電池生產良率。本發明所提供的方 法具有工藝可控性強,制備的薄膜質量高、均勻性好,工藝簡單,適合工業 化生產的特點。
因為,In2Se、In4Se3、InSe和In6Se7等物質在300℃以上都具有很高的蒸 汽壓,在300℃以上這些物質都具有很強的揮發性,而已報道的CIGS薄膜的 制備溫度往往在500℃以上(Marianna?Kemell,Mikko?Ritala,and?Markku?Leskel, Critical?Reviews?in?Solid?State?and?Materials?Sciences,30:1-31,2005)。若在 CIGS薄膜的制備過程中生成這些高揮發性的中間物質,往往會導致CIGS薄 膜的最終成分難以控制。
本發明通過磁控濺射法,采用富銅靶和富銦靶在室溫下制備出CIGS前驅 薄膜,這一方面避免了高溫襯底導致的銦硒化合物的揮發問題;另一方面, 在CIGS前驅薄膜中,富銦相和富銅相緊密結合,處于原位復合的狀態,在熱 處理反應時,物質輸運路徑非常短,反應速度非常快,快速生成蒸汽壓非常 低的銅銦鎵硒多元化合物,有效地避免了元素的揮發。
實現本發明所提供的CIGS薄膜太陽電池光吸收層制備方法的一種方案 (a)為:
CIGS薄膜太陽電池光吸收層的一種制備方法,其特征在于:采用包括射 頻濺射和直流濺射的磁控濺射法制備具有高反應活性的CIGS前驅薄膜,并進 行熱處理以快速反應,制備CIGS薄膜。具體包括以下工藝步驟:
(1)制備CIGS前驅薄膜:在底電極(101)上通過磁控濺射法,采用單 靶濺射、富銅靶和貧銅靶同時濺射,制備出CIGS前驅薄膜(200);
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