[發明專利]一種疊層太陽能電池及其制造方法

無效

• 申請號: 201010117844.6
• 申請日: 2010-03-05
• 公開（公告）號: CN101969076A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 麥耀華;李宏;林清耿;王輝;陳琳
• 申請（專利權）人: 保定天威集團有限公司
• 主分類號: H01L31/042
• 分類號: H01L31/042;H01L31/0352;H01L31/0392;H01L31/20
• 代理公司: 唐山順誠專利事務所 13106
• 代理人: 于文順

1.一種疊層太陽能電池，其特征在于包括襯底、底電池、頂電池、透明導電減反膜和金屬柵電極，底電池、頂電池、透明導電減反膜（8）和金屬柵電極（9）依次設置于襯底（1）上，所述底電池為薄膜多晶硅異質結電池，由依次沉積于襯底（1）上的N⁺型重摻雜硅薄膜（2）、?N型多晶硅薄膜（3）和第一P型非晶硅薄膜（4）構成；所述頂電池為非晶硅P-I-N結電池，由依次沉積于底電池上的N型非晶硅薄膜（5）、?非晶硅本征吸收層（6）?和?第二P型非晶硅薄膜（7）組成。

2.根據權利要求1所述之疊層太陽能電池，其特征在于構成中還包括設置于襯底（1）與底電池之間的絨面背反射電極，所述絨面背反射電極由依次沉積于襯底（1）上的金屬層（10）和透明導電薄膜（11）組成，透明導電薄膜（11）上沉積底電池的N⁺型重摻雜硅薄膜（2）。?

3.根據權利要求1或2所述之疊層太陽能電池，其特征在于所述N⁺型重摻雜硅薄膜厚度在幾nm到幾十nm之間；N型多晶硅薄膜（3）的厚度為2mm～30mm，晶粒尺寸為1mm～1mm。?

4.根據權利要求3所述之疊層太陽能電池，其特征在于所述第一P型非晶硅薄膜（4）的厚度為10～90nm。?

5.一種疊層太陽能電池的制造方法，其特征在于包含如下步驟：

A、在襯底上濺射金屬層；

B、沉積透明導電薄膜；

C、采用PECVD（等離子體增強化學氣相沉積法）沉積N⁺型重摻雜硅薄膜；

D、采用PECVD方法沉積N型非晶硅薄膜，然后采用高溫退火、激光晶化方式使非晶硅薄膜完全晶化；

E、采用PECVD沉積第一P型非晶硅薄膜，形成非晶/多晶硅異質結底電池；

F、采用PECVD沉積N型非晶硅薄膜；

G、采用PECVD沉積非晶硅本征吸收層；

H、采用PECVD沉積第二P型非晶硅薄膜；

I、沉積透明導電減反膜；

J、制備金屬柵電極。?

6.根據權利要求5所述之疊層太陽能電池的制造方法，其特征在于更具體的步驟是：

A、在不銹鋼、陶瓷或玻璃襯底（1）上濺射AG或AL金屬層（10）；

B、采用磁控濺射或低壓化學氣相沉積方法沉積透明導電薄膜（11）；

C、采用PECVD沉積N⁺型重摻雜硅薄膜（2）；?????

D、采用PECVD方法沉積N型非晶硅薄膜（3），然后采用高溫退火、激光晶化等方式使非晶硅薄膜完全晶化；

E、采用PECVD沉積第一P型非晶硅薄膜（4），形成非晶/多晶硅異質結底電池；

F、采用PECVD沉積N型非晶硅薄膜（5）；

G、采用PECVD沉積非晶硅本征吸收層（6）；

H、采用PECVD沉積第二P型非晶硅薄膜（7）；

I、采用磁控濺射或低壓化學氣相沉積方法沉積（ZnO）透明導電減反膜（8）；

J、采用絲網印刷的方法制備金屬柵電極（9）。