[發明專利]檢驗設備、光刻設備、光刻處理單元以及檢驗方法

有效

• 申請號: 201010116824.7
• 申請日: 2010-02-09
• 公開（公告）號: CN101819384A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發明（設計）人: H·A·J·克瑞姆;A·G·M·基爾斯;H·P·M·派勒曼斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王新華

1.一種檢驗設備，其配置用以測量襯底的屬性，所述設備包括：

照射系統，其配置用以提供輻射束；

輻射投影裝置，其配置用以將所述輻射束投影到所述襯底上；

高數值孔徑透鏡，其數值孔徑大于0.9；

探測器，其配置用以探測從所述襯底的表面反射的所述輻射束并且分 離地探測零衍射級和更高衍射級；

其中，由所述輻射投影裝置投影的輻射束的照射輪廓使得能夠使用所 述分離地探測的零衍射級和更高衍射級來重建標記的至少一個特征，

其中所述照射輪廓具有四個相等的扇形，兩個不相鄰的扇形被照射而 其他兩個不相鄰的扇形不被照射。

2.如權利要求1所述的檢驗設備，其中，所述更高衍射級是第一衍 射級。

3.如權利要求1所述的檢驗設備，其中，所述照射系統配置所述輻 射束以具有所述輻射輪廓。

4.如權利要求1所述的檢驗設備，所述襯底具有具有對稱線的標記， 所述照射輪廓的虛擬線平行于所述標記的對稱線。

5.如權利要求2所述的檢驗設備，其中，所述數值孔徑配置成堵塞 所述輻射束的與輻射投影裝置的光瞳面中所述第一衍射級被探測的區域 相對應的部分。

6.一種光刻設備，包括：

照射光學系統，其布置用以照射圖案；

投影光學系統，其布置用以將所述圖案的圖像投影到襯底上；和

如權利要求1所述的檢驗設備。

7.一種光刻單元，包括：

涂布器，其布置用以給襯底涂覆輻射敏感層；

光刻設備，其布置用以將圖像曝光到襯底的由涂布器涂覆的輻射敏感 層上；

顯影裝置，其布置用以顯影由光刻設備曝光的圖像；和

如權利要求1-5中任一項所述的檢驗設備。

8.如權利要求7所述的光刻單元，其中，數值孔徑配置成堵塞所述 輻射束的與輻射投影裝置的光瞳面中為更高衍射級的第一衍射級被探測 的區域相對應的部分。