[發明專利]虛擬測量先進工藝控制系統和設置方法

有效

• 申請號: 201010116662.7
• 申請日: 2010-02-10
• 公開（公告）號: CN101908495A
• 公開（公告）日: 2010-12-08
• 發明（設計）人: 蔡柏灃;曾衍迪;宋金寧
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;H01L21/00;G01R31/26
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 姜燕;邢雪紅

1.一種虛擬測量先進工藝控制系統，包括：

一工藝設備，根據所接收的多個工藝輸入，處理多個晶片；

一測量設備，用以測量至少一個上述晶片的一特性，并且產生一真實測量數據，其中上述晶片包括至少一個品管樣品晶片；

一虛擬測量模塊，用以為每一個上述晶片產生一預估測量數據；以及

一先進工藝控制器，用以接受上述預估測量數據與上述真實測量數據，并且根據上述預估測量數據與上述真實測量數據，產生上述工藝設備的上述工藝輸入，其中

上述品管樣品晶片的上述真實測量數據用以更新上述虛擬測量模塊；

上述虛擬測量模塊的多個關鍵變數僅在判斷出上述虛擬測量模塊所產生的上述預估測量數據不精確時被更新；以及

上述虛擬測量模塊的多個參數根據上述品管樣品晶片的上述實際測量數據而被更新，其中上述參數擇自于由權重、斜率與偏差所組成的群組。

2.如權利要求1所述的虛擬測量先進工藝控制系統，還包括：

一故障檢測及分類模塊，用以接收并存儲來自于上述工藝設備的多個工藝數據，上述工藝數據代表上述工藝設備的生產操作。

3.如權利要求2所述的虛擬測量先進工藝控制系統，其中上述故障檢測及分類模塊預處理已被接收的上述工藝數據，用以將上述工藝數據對時間作平均并產生多個故障檢測及分類數據，而上述故障檢測及分類模塊提供上述故障檢測及分類數據至上述虛擬測量模塊，以便更新上述虛擬測量模塊。

4.如權利要求1所述的虛擬測量先進工藝控制系統，還包括一測量數據調整單元，用以在由上述虛擬測量模塊產生的上述預估測量數據被提供至上述先進工藝控制器之前，過濾與平滑化上述預估測量數據。

5.如權利要求4所述的虛擬測量先進工藝控制系統，其中上述測量數據調整單元使用一指數加權移動平均過濾單元過濾上述預估測量數據，上述預估測量數據使用歷史上述實際測量數據與目前的上述實際測量數據。

6.如權利要求1所述的虛擬測量先進工藝控制系統，其中上述晶片包括一批次晶片，并且至少一個上述品管樣品晶片包括兩個品管樣品晶片。

7.一種虛擬測量先進工藝控制平臺的設置方法，適用于多個工藝，上述方法包括：

根據來自于一先進工藝控制器的多個工藝輸入，處理具有上述工藝之一的一晶片批次；

測量上述晶片批次的至少一個的一特性，并且產生一真實測量數據，上述至少一個晶片批次包括一品管樣品晶片；

僅于上述虛擬測量模型被判斷為不精確時，測試一虛擬測量模型的一精確性；

使用上述真實測量數據，為目前的上述晶片批次的上述品管樣品晶片更新上述虛擬測量模塊的多個參數，并且為先前的上述晶片批次的多個品管樣品晶片更新歷史測量數據，其中上述參數擇自于由權重、斜率與偏差所組成的群組；以及

自上述虛擬測量模塊，提供上述晶片的上述真實測量數據至上述先進工藝控制模塊而致能上述先進工藝控制模塊，為了下一批次的晶片批次的工藝處理調整上述工藝輸入。

8.如權利要求7所述的虛擬測量先進工藝控制平臺的設置方法，還包括在由上述虛擬測量模塊產生的上述預估測量數據被提供至上述先進工藝控制器之前，過濾與平滑化上述預估測量數據。

9.如權利要求8所述的虛擬測量先進工藝控制平臺的設置方法，其中上述過濾與平滑化上述預估測量數據的步驟包括將一指數加權移動平均過濾單元用于過濾上述預估測量數據，上述預估測量數據使用歷史上述實際測量數據與目前的上述實際測量數據。

10.如權利要求7所述的虛擬測量先進工藝控制平臺的設置方法，其中上述晶片批次之前一個的上述品管樣品晶片包括上述品管樣品晶片的最近X個，而X為大于或等于二十的正整數。