[發(fā)明專利]分析用具的反應(yīng)槽的指定方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010115434.8
• 申請日: 2005-07-12
• 公開（公告）號: CN101819211A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤本浩司;堀雅貴
• 申請（專利權(quán)）人: 愛科來株式會社
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00;G01N35/10;G01N21/01
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，在具有用于保持試料 和試藥的反應(yīng)液的多個反應(yīng)槽的分析用具中，指定所述各反應(yīng)槽的位 置，其特征在于：

在所述分析用具中設(shè)置有用于識別所述分析用具的指定部位的基 準(zhǔn)部，通過識別所述基準(zhǔn)部來指定所述各反應(yīng)槽的位置，

使所述分析用具旋轉(zhuǎn)，并向所述分析用具照射光，根據(jù)此時接收 的反射光的光量的變化，檢測目標(biāo)反應(yīng)槽。

2.如權(quán)利要求1所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

使用激光作為向所述分析用具照射的光。

3.如權(quán)利要求1所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

所述基準(zhǔn)部的反射率被形成為與其他部位不同。

4.如權(quán)利要求2所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

所述分析用具包括所述反應(yīng)槽，并且具有用于將毛細(xì)管力作用在 試料上以使試料移動的流路、用于將所述流路內(nèi)部的氣體排出至外部 的排氣口、以及塞住所述排氣口并且利用激光形成開口的密封件，其 中，

使用在所述密封件上形成開口用的光源作為向所述分析用具照射 激光的光源。

5.如權(quán)利要求4所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

控制所述光源，使得與檢測所述基準(zhǔn)部時相比，在所述密封件上 形成開口時，從所述光源射出的激光的輸出大。

6.如權(quán)利要求1所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

作為所述分析用具，使用作為全體形成為圓盤狀、并且為了識別 目標(biāo)反應(yīng)槽而與該反應(yīng)槽對應(yīng)，并與所述基準(zhǔn)部一起在所述分析用具 的周緣部設(shè)置有識別部的結(jié)構(gòu)，而且從所述分析用具的側(cè)面照射光， 另一方面，根據(jù)來自所述分析用具的反射光進(jìn)行所述各反應(yīng)槽的指定。

7.如權(quán)利要求6所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

向所述分析用具照射光以及從所述分析用具接收反射光是利用反 射型光電傳感器進(jìn)行的。

8.如權(quán)利要求7所述的分析用具的反應(yīng)槽的位置指定方法，其特 征在于：

所述反射型光電傳感器具有發(fā)光部和受光部，

配置所述發(fā)光部和受光部，使得在所述分析用具的凸部上反射光 的光量為最大。