[發明專利]功能聚硅氧烷在金屬離子分離中的應用

無效

• 申請號: 201010115028.1
• 申請日: 2010-02-26
• 公開（公告）號: CN101757894A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發明（設計）人: 辛忠;陸馨
• 申請（專利權）人: 華東理工大學
• 主分類號: B01J20/26
• 分類號: B01J20/26;C08G77/28;C08G77/26;C08G77/18
• 代理公司: 上海順華專利代理有限責任公司 31203
• 代理人: 陳淑章

1.一種聚硅氧烷在制備金屬離子吸附劑中的應用，

其中所述的聚硅氧烷主要由式I所示化合物在10℃～40℃及酸性或堿性條件下，經水解均聚2小時至24小時獲得；

或由式I所示化合物和式II所示化合物在10℃～40℃及酸性或堿性條件下，經水解共聚2小時至24小時獲得；

式I和式II中，R₁，R₂，R₃和R₄分別獨立選自：C₁～C₆烷基，C₁～C₆烷氧基或由氨基、巰基或環氧基取代的C₁～C₆烷基，且在R₁，R₂，R₃和R₄中：由氨基、巰基或環氧基取代的C₁～C₆烷基的個數為1～3；

R₅，R₆，R₇和R₈分別獨立選自：C₁～C₂₀烷基、C₁～C₆烷氧基、C₁～C₆鏈烯基、苯基或鹵素中一種；

所述的金屬離子是：元素周期表中，第3周期II_A族和第4～6周期的II_A族、III_A族、IV_A族、I_B～VII_B族及VIII族中所包含的金屬離子中一種或二種以上，或銻離子。

2.如權利要求1所述的應用，其特征在于，其中R₁，R₂，R₃和R₄分別獨立選自：C₁～C₃烷基，C₁～C₃烷氧基或由氨基、巰基或環氧基取代的C₁～C₃烷基，且在R₁，R₂，R₃和R₄中：由氨基、巰基或環氧基取代的C₁～C₃烷基的個數為1。

3.如權利要求2所述的應用，其特征在于，其中所用的式I所示化合物是：γ-(2，3-環氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷或γ-巰丙基三甲氧基硅烷。

4.如權利要求1所述的應用，其特征在于，其中所用的式II所示化合物是：甲基三甲氧基硅烷或四甲氧基硅烷。

5.如權利要求1所述的應用，其特征在于，其中所述的金屬離子是：鎂離子、鈣離子、鈧離子、釩離子、鉻離子、錳離子、鐵離子、鈷離子、鎳離子、銅離子、鋅離子、鍺離子、釔離子、鋯離子、鈮離子、鉬離子、釕離子、銠離子、鈀離子、銀離子、鎘離子、銦離子、錫離子、鋇離子、鑭離子、鈰離子、釹離子、銪離子、鋱離子、錸離子、鋨離子、銥離子、鉑離子、金離子、汞離子、鉈離子或/和鉛離子。