[發(fā)明專利]涂覆液體儲罐和具有該涂覆液體儲罐的微凹印涂覆裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010111894.3 | 申請日： | 2010-02-05 |
| 公開（公告）號： | CN101797547A | 公開（公告）日： | 2010-08-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金成鎮(zhèn);黃智祥;李虎燮;金秀煥 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號： | B05C11/11 | 分類號： | B05C11/11;B05C1/08;H01M4/139 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 羅正云;王誠華 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 液體 具有 微凹印涂覆 裝置 | ||
1.一種涂覆液體儲罐，包括：
用于供給涂覆液體的供給端口；
設(shè)置在所述儲罐的底部用于排出所述涂覆液體的排出端口；和
設(shè)置在所述排出端口上方的緩沖板，
其中所述緩沖板包括用于阻擋波浪的阻擋部分和允許雜物通過以到達(dá)所述 排出端口的開口，并且所述阻擋部分具有斜面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆液體儲罐，其中所述緩沖板進(jìn)一步包括設(shè)置 在該緩沖板兩端的磁體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆液體儲罐，其中所述儲罐的底面為斜面，并 且所述排出端口被設(shè)置在所述斜面的最低部分處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆液體儲罐，進(jìn)一步包括過流端口，該過流端 口設(shè)置在所述儲罐的與所述供給端口對應(yīng)的預(yù)定位置上，所述過流端口在涂覆 過程中排出被供給的涂覆液體中的雜物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆液體儲罐，其中：
所述排出端口被連接到排出通道，以將所述雜物排出到所述儲罐的外部； 并且
所述過流端口被連接到過流端口排出通道，該過流端口排出通道被連接到 所述排出通道。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂覆液體儲罐，其中所述過流端口被設(shè)置在所述 儲罐的預(yù)定高度處，以將所述涂覆液體的均一液位保持在所述預(yù)定高度處。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂覆液體儲罐，進(jìn)一步包括位于所述供給端口附 近的一個(gè)或多個(gè)隔離壁，用于當(dāng)所述涂覆液體被從所述供給端口供給時(shí)最小化 所述涂覆液體的運(yùn)動。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂覆液體儲罐，其中所述多個(gè)隔離壁包括固定到 所述儲罐的底面的第一隔離壁和固定到所述儲罐的側(cè)壁的第二隔離壁。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂覆液體儲罐，其中所述多個(gè)隔離壁包括被設(shè)置 為垂直于所述涂覆液體的供給方向的第一隔離壁和被設(shè)置相對于所述涂覆液體 的所述供給方向傾斜的第二隔離壁。
10.一種微凹印涂覆裝置，包括：
根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的涂覆液體儲罐；以及
設(shè)置在所述涂覆液體儲罐的上部的微凹印輥。
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